一、产品特点：
    1、面积大：0~Ø25毫米、0~Ø50毫米；

    2、溅射样品表面膜层更均匀；

    3、颗粒度更小（3nm左右）；

    4、溅射到样品表面能量低，对样品损伤小；（适用温度敏感性高的样品）

    5、可以溅射各种固体靶材（如各种金属、陶瓷、碳等）；

    6、控制精度高，实验结果精准可控重复性高；

    7、在同一真空腔内，可实现清洗和镀膜，降低污染样品造成的数据偏差 ；
    8、加入特殊气体，可进行反应离子束刻蚀；
    9、可实现的功能有：等离子清洗、镀膜等；
    10、数字化自动控制系统。

二、技术参数：

    1、真空度：极限真空度5*10-3Pa（不通氩气）；

    2、*高压：（1）200~6000V；

    3、样品台可旋转；

    4、具有自保护功能；

    5、单离子枪；

    6、样品冷却：半导体冷却（ 选配件）。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途