全自动双站化学吸附仪CM8320系列

CHEMIMASTER 8320系列双站全自动化学吸附仪简介

       chemiMaster 8320(CM8320)系列仪器基于动态技术，可进行TPD(程序升温脱附)、TPR（程序升温还原），TPO（程序升温氧化）、脉冲化学吸附测金属分散度、蒸汽吸附、BET单点比表面积的物理吸附分析、多组分竞争性吸附，用于测定催化剂材料的酸碱量、酸碱强度、贵金属分散度、氧化还原性能、多组分竞争性吸附等重要指标。具有双分析站，可同时进行2个样品的化学吸附测试；并且其中1个站可升级为微反装置，同时进行1个样品的微反分析和1个样品的化学分析。

l  反应炉工作温度范围：室温～1200℃

l  反应炉温度测控方式：采用“床温”和“炉温”双点测控方式 

l  样品温度测控方式：独立的温度传感测量与控制

l  检测器类型：线性度良好的高灵敏热导检测器TCD 

l  仪器内部整体保温：最高可达300℃

l  MFC数量： 2或者4 

l  气体管路数：8路气体

l  气体流速范围：5～100 SCCM

l  程序升温实时显示

l  阀门状态实时显示

l  TCD (and 质谱 MS)状态

l  具有系统危险状态报警功能

l  多组分竞争性气体吸附，可以进入4路气体

l  蒸汽发生器: 可以选配蒸汽发生器，可以进行各种蒸汽化学吸附

l  LOOP环：可以选配3种体积以上的LOOP环，最小体积150微升

l  管路材质和管径：配置1/8 英寸的SS 316不锈钢管路和自动六通阀 

l  管路保温：仪器内部所有管线和控制阀门均加热控温以防止蒸汽的凝结和滞留 

长宽高：110CM*63CM*83CM,功率：1500瓦，重量：150kg

仪器特性：

仪器选型表：

竞争性吸附
 

通过TPD或脉冲滴定等过程，可以测试样品对于特定气体吸附量。但在实际应用中，样品所接触到的气氛通常更为复杂，不同气体同时与样品接触时，吸附能力并非简单的加和关系，而有可能表现出不同组分的竞争关系（X组分的存在有可能抑制样品对于Y组分的吸附）或协调关系（X组分的存在有可能促进样品对于Y组分的吸附）。因此对于实际应用场景，有必要针对更为复杂的气体配比条件，测试样品对于多组分气体的实际吸附能力。

仪器功能
 

TPD：程序升温脱附

样品的表面活性位（例如酸中心）吸附探针分子（例如NH3）后，在载气吹扫下进行程序升温，记录样品温度与载气浓度的变化，即为TPD测试谱图。谱图中探针分子的脱附峰的温度对应活性中心的强度，谱图中探针分子的脱附峰的面积对应活性中心的数量。

TPR/TPO：程序升温还原/程序升温氧化

TPR用于表征金属催化剂的还原性。用一定比例的H2/Ar混合气体作为载气流过样品床层并按照一定速率程序升温。记录样品温度与载气浓度的变化，即为TPR测试谱图。谱图中还原峰的温度对应金属中心的还原性能，谱图中还原峰的面积对应金属中心还原过程的耗氢量。

TPO与TPR类似，用氧化性气体代替还原性气体，用于测试金属中心的氧化性能。

脉冲滴定

以脉冲方式向样品表面定量注入特定的气体，记录载气浓度的变化，未被吸附的气体将流过样品床层并被检测器记录。记录载气浓度的变化得到脉冲滴定谱图，其中记录到的峰对应于未被吸附的气体的量，脉冲的次数对应于总脉冲量，两者差减就是样品的吸附量。脉冲滴定用于表征活性金属面积，分散度，平均晶粒尺寸等参数。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途