日立电镜制样设备参数

日立高新技术公司

• 型号IM4000PLUS
• 中文简称离子研磨装置
• 英文简称IM4000PLUS Ion Milling System
• 产地日本
• 上市时间2013年8月21日

日立高新技术公司

• 型号MC1000
• 中文简称日立高新MC1000磁控溅射器
• 英文简称MC1000
• 产地日本
• 上市时间2011年5月18日

日立高新技术公司

• 型号ArBlade5000
• 中文简称离子研磨系统ArBlade5000
• 英文简称ArBlade5000
• 产地日本
• 上市时间2016年

日立高新技术公司

• 型号ZONESEM II/Zone TEM II
• 中文简称电镜样品清洗仪
• 产地日本
• 上市时间2015年

日立高新技术公司

• 型号ZONETEM II
• 中文简称透射电镜臭氧清洗设备ZONETEM II
• 英文简称Sample Cleaner ZONETEM II
• 产地日本
• 上市时间2019年9月6日