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高密度光存储技术实验室

高密度光存储技术实验室

   中国科学院上海光学精密机械研究所高密度光存储技术实验室成立于1985年,是目前我国最具实力的光存储材料与技术的研究基地之一,主要从事新型光存储材料研究、光盘母盘刻录机研制、光盘盘基制备及检测、光盘多层膜设计和制备、光盘性能测试与评估和光盘应用系统开发等方面的研究。近年来在干福熹院士的直接领导下,建立了高密度和超高密度光存储材料与技术研究、开发平台,建立了光盘及其应用国家工程研究中心;完成了国家重大科技攻关项目、国家高技术发展计划(“863”)、 国家自然科学基金重点项目、中科院重大应用基础研究项目、上海市科技发展基金重点项目等二十多项课题的研究和开发任务,获得重大成果,有十一项科研成果分别获国家、中科院和上海市科技进步一、二、三等奖,另有多项实用化成果通过各级鉴定。在国内外核心学术刊物上发表研究论文600多篇,授权发明专利十余项,培养硕士、博士研究生四十多人。

   本实验室积极推进科研成果向生产转化,与国内外光盘研究开发机构建立了广泛而紧密的联系。和深圳先科企业集团、杭州大自然集团,山东华辰集团,日本MATSUSHITA, HITACHI, RICHO, FUJISU、美国DCA, ODC、英国Nimbus、荷兰PHILIPS、瑞士4M, 德国SINGULUS 等合作进行有关光存储介质、母盘制作、光盘工业生产等方面的研究和开发。

   本实验室目前共有主要研究人员19人,其中中科院院士1人,研究员6人(含院士),副研究员9人。其中具有博士学位人员9人,有5人在国外连续工作或学习至少1年以上。目前我室在读研究生共22人,其中博士生和硕博连读生12人。本实验室总面积800平方米。