ISO 14701:2018
表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 氧化硅厚度的测量
Surface chemical analysis — X-ray photoelectron spectroscopy — Measurement of silicon oxide thickness
- 标准号
- ISO 14701:2018
- 发布
- 2018年
- 发布单位
- 国际标准化组织
- 当前最新
- ISO 14701:2018
- 引用标准
- ISO 18115-1
- 适用范围
- 该文件规定了几种测量（100）和（111）硅片表面氧化物厚度的方法，作为使用X射线光电子能谱测量时二氧化硅的等效厚度。 它仅适用于平坦、抛光的样品以及包含 Al 或 Mg X 射线源、允许定义光电子发射角度的样品台以及带有可限制为小于 6° 锥体的输入透镜的光谱仪的仪器半角。 对于厚度范围为 1 nm 至 8 nm 的热氧化物，使用本文档中描述的最佳方法，在 95% 置信水平下，不确定性通常约为 2%，最佳情况下约为 1%。 还给出了一种更简单的方法，其不确定性稍差，但通常足够。
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