JB/T 8226.2-1999
光学零件镀膜.水解法镀双层减反射膜

Coating for optical element.Double layeranti-reflecting coating by hydrolltic process

JB/T 8226.2-1999 中，可能用到以下仪器

 

TRILOS 混料脱泡机 PM300V

TRILOS 混料脱泡机 PM300V

上海人和科学仪器有限公司

 

TRILOS 三辊机 TR80A

TRILOS 三辊机 TR80A

上海人和科学仪器有限公司

 

TRILOS 三辊机 TR120A

TRILOS 三辊机 TR120A

上海人和科学仪器有限公司

 

TRILOS 三辊机 TR50M

TRILOS 三辊机 TR50M

上海人和科学仪器有限公司

 

TRILOS 混料脱泡机 PM300

TRILOS 混料脱泡机 PM300

上海人和科学仪器有限公司

 

高精度光学浮区法单晶炉

高精度光学浮区法单晶炉

QUANTUM量子科学仪器贸易（北京）有限公司

 

高真空镀膜机 Leica EM ACE600

高真空镀膜机 Leica EM ACE600

无效仪器有限公司

 

MCR 摩擦磨损分析仪

MCR 摩擦磨损分析仪

安东帕（上海）商贸有限公司

 

MCR摩擦测量仪

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安东帕（上海）商贸有限公司

 

Gatan 精密刻蚀镀膜系统PECS II 685

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北京欧波同光学技术有限公司

 

德国徕卡 镀膜仪 EM ACE200

德国徕卡 镀膜仪 EM ACE200

徕卡显微系统(上海)贸易有限公司

 

德国徕卡 镀膜仪 EM ACE600

德国徕卡 镀膜仪 EM ACE600

徕卡显微系统(上海)贸易有限公司

 

JB/T 8226.2-1999

标准号
JB/T 8226.2-1999
发布日期
1999年08月06日
实施日期
2000年01月01日
废止日期
无
中国标准分类号
N30
国际标准分类号
17.180.30
发布单位
CN-JB
被代替标准
JB/T 8226.2-1995
适用范围
本标准规定了镀在光学玻璃零件上膜层的技术要求、试验方法、检验规则。 本标准适用于正钛酸乙酯和正硅酸乙脂溶液用于解法在光学玻璃零件上镀的双层减反射莫。

JB/T 8226.2-1999 中可能用到的仪器设备

光学仪器组件 折光仪(折射仪) 露点仪 纯水器/超纯水器/纯水机/超纯水机 溶解氧测定仪


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