JB/T 8946-1999
真空离子镀膜设备
Vacuum ion coating plant
JB/T 8946-1999 发布历史
本标准规定了真空离子镀膜设备的技术要求，试验方法，检验规则，标志、包装、运输和贮存等。 本标准适用于压力在10^(-4)～10^(-3)Pa范围的真空离子镀膜设备，具体包括如下类型：多弧离子镀、电弧放电型真空离子镀、空心阴极离子镀(HCD)、射频离子镀(RFIP)、直流放电二极型(DCIP)、多阴极型、活性反应蒸发镀(ARE)、增强型ARE、低压等离子体离子镀(LFPD)、电场蒸发离子镀、感应加热离子镀、簇团离子束镀等。 注：离子镀是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物沉积在基片上。
JB/T 8946-1999由行业标准-机械 CN-JB 发布于 1999-07-12，并于 2000-01-01 实施，于 2010-07-01 废止。
JB/T 8946-1999 在中国标准分类中归属于: J78 真空技术与设备。
JB/T 8946-1999的历代版本如下：
- 1999年07月12日 JB/T 8946-1999 真空离子镀膜设备
- 2010年02月11日 JB/T 8946-2010 真空离子镀膜设备
JB/T 8946-1999 真空离子镀膜设备 于 2010-02-11 变更为 JB/T 8946-2010 真空离子镀膜设备。
- 标准号
- JB/T 8946-1999
- 发布日期
- 1999年07月12日
- 实施日期
- 2000年01月01日
- 废止日期
- 2010-07-01
- 中国标准分类号
- J78
- 发布单位
- CN-JB
- 代替标准
- JB/T 8946-2010
- 适用范围
- 本标准规定了真空离子镀膜设备的技术要求，试验方法，检验规则，标志、包装、运输和贮存等。 本标准适用于压力在10^(-4)～10^(-3)Pa范围的真空离子镀膜设备，具体包括如下类型：多弧离子镀、电弧放电型真空离子镀、空心阴极离子镀(HCD)、射频离子镀(RFIP)、直流放电二极型(DCIP)、多阴极型、活性反应蒸发镀(ARE)、增强型ARE、低压等离子体离子镀(LFPD)、电场蒸发离子镀、感应加热离子镀、簇团离子束镀等。 注：离子镀是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物沉积在基片上。