ASTM E1523-97
X射线光电子能谱法中电荷控制和电荷参考技术的标准指南
Standard Guide to Charge Control and Charge Referencing Techniques in X-Ray Photoelectron Spectroscopy
ASTM E1523-97 中，可能用到以下耗材
- 标准号
- ASTM E1523-97
- 发布
- 1997年
- 发布单位
- 美国材料与试验协会
- 替代标准
- ASTM E1523-03
- 当前最新
- ASTM E1523-15
- 1.1 本指南介绍了 XPS 用户熟悉各种电荷控制和电荷位移参考技术，这些技术已经用于从绝缘样品表面采集和解释 X 射线光电子能谱 (XPS) 数据。 1.2 本指南旨在适用于 XPS 中的电荷控制和电荷参考技术，不一定适用于电子激发系统。 1.3 除非另有说明，SI 单位为标准单位。 1.4 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的...
ASTM E1523-97相似标准
推荐
X射线光电子能谱（XPS）谱图分析
在表面吸附、催化、金属的氧化和腐蚀、半导体、电极钝化、薄膜材料等方面都有应用。(4)化合物结构鉴定X射线光电子能谱法对于内壳层电子结合能化学位移的精确测量，能提供化学键和电荷分布方面的信息。四、X射线光电子能谱谱图XPS谱图的主线：光电子线——鉴定元素伴峰或伴线：俄歇线、X射线卫星线、振激线和振离线、多重劈裂线、能量损失线、鬼线——帮助解释谱图，为原子中电子结构的研究提供重要信息。...
X射线光电子能谱的原理和应用
在表面吸附、催化、金属的氧化和腐蚀、半导体、电极钝化、薄膜材料等方面都有应用。 4 化合物结构签定 X射线光电子能谱法对于内壳层电子结合能化学位移的精确测量，能提供化学键和电荷分布方面的信息。四 下面重点介绍一下X射线在表面分析中的原理及应用X射线光电子能谱法（X-rayPhotoelectron Spectrom——XPS）在表面分析领域中是一种崭新的方法。...
带你全方位了解X射线光电子能谱！
此时，当X射线不断照射样品时，样品表面发射光电子，表面亏电子， 出现正电荷积累（XPS中荷正电），从而影响XPS谱峰，影响XPS分析。在用XPS测量绝缘体或者半导体时，需要对荷电效应所引起的偏差进行校正，称之为“荷电校正”。最常用的，人们一般采用外来污染碳的C1s作为基准峰来进行校准。以测量值和参考值(284.8 eV)之差作为荷电校正值(Δ)来矫正谱中其他元素的结合能。...
【材料课堂】X射线光电子能谱(XPS)谱图分析
在表面吸附、催化、金属的氧化和腐蚀、半导体、电极钝化、薄膜材料等方面都有应用。(4)化合物结构鉴定X射线光电子能谱法对于内壳层电子结合能化学位移的精确测量，能提供化学键和电荷分布方面的信息。四、X射线光电子能谱谱图XPS谱图的主线：光电子线——鉴定元素伴峰或伴线：俄歇线、X射线卫星线、振激线和振离线、多重劈裂线、能量损失线、鬼线——帮助解释谱图，为原子中电子结构的研究提供重要信息。...