GB/T 40110-2021
表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染

Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

GBT40110-2021, GB40110-2021


标准号
GB/T 40110-2021
别名
GBT40110-2021, GB40110-2021
发布
2021年
采用标准
ISO 14706:2014 IDT
发布单位
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
当前最新
GB/T 40110-2021
 
 
引用标准
ISO 14644-1
适用范围
本文件描述了测量经化学机械抛光或外延生长的硅片上表面元素污染的原子表面密度的TXRF方法。 本文件适用于以下情形: ———原子序数从16(S)到92(U)的元素; ———原子表面密度介于1×1010a/cm2~1×1014a/cm2之间的污染元素;tomstoms ———采用VPD(气相分解)样品制备方法得到的原子表面密度介于5×108a/cm2~5×1012atomst/cm2之间的污染元素(见3.oms4)。

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