ASTM D5127-13(2018)
电子和半导体行业超纯水标准指南

Standard Guide for Ultra-Pure Water Used in the Electronics and Semiconductor Industries


标准号
ASTM D5127-13(2018)
发布
2018年
发布单位
美国材料与试验协会
当前最新
ASTM D5127-13(2018)
 
 
引用标准
ASTM D1129 ASTM D1193 ASTM D1976 ASTM D2791 ASTM D3919 ASTM D4191 ASTM D4192 ASTM D4327 ASTM D4453 ASTM D4517 ASTM D5173 ASTM D5196 ASTM D5391 ASTM D5462 ASTM D5542 ASTM D5544 ASTM D5673 ASTM D5996 ASTM D5997 ASTM F1094
适用范围
1.1 本指南提供了与电子和半导体行业制造相关的水质建议。描述了七种水分类,包括线宽低至 0.032 µm 的水。在所有情况下,建议都是针对分配点 (POD) 的水。
1.2 水用于半导体元件在制造过程中的清洗和漂洗。水还用于清洁和蚀刻操作、制造蒸汽以氧化硅表面、制备光掩模以及沉积发光材料。其他应用包括固态器件、薄膜器件、通信激光器、发光二极管、光电探测器、印刷电路、存储器件、真空管器件或电解器件的开发和制造。
1.3 用户需要与此处描述的水质不同的水质时,应查阅其他水标准,例如规范D1193和指南D5196。
1.4 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题(如果有)。本标准的使用者有责任建立适当的安全、健康和环境实践,并在使用前确定监管限制的适用性。
1.5 本国际标准是根据世界贸易组织贸易技术壁垒(TBT)委员会发布的《关于制定国际标准、指南和建议的原则的决定》中确立的国际公认的标准化原则制定的。

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