T/CNIA 0175-2022
多晶硅生产固定污染源含氢排气中气态污染物采样方法

Sampling method for gaseous pollutants in hydrogen-containing exhaust gas from stationary pollution sources in polycrystalline silicon production


 

 

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标准号
T/CNIA 0175-2022
发布
2022年
发布单位
中国团体标准
当前最新
T/CNIA 0175-2022
 
 
适用范围
本文件规定了多晶硅生产中淋洗塔及其他固定污染源含氢排放口中气态污染物的采样方法。 本文件适用于多晶硅生产中淋洗塔及其他固定污染源含氢排放口中气态污染物的采样。

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