ASTM F523-93(1997)
抛光硅片表面的无辅助目视检查的标准实施规程
Standard Practice for Unaided Visual Inspection of Polished Silicon Wafer Surfaces
- 标准号
- ASTM F523-93(1997)
- 发布
- 1993年
- 发布单位
- 美国材料与试验协会
- 替代标准
- ASTM F523-02
- 当前最新
- ASTM F523-02
- 引用标准
- ASTM F154 ASTM F416
- 适用范围
- 1.1 本实践涵盖了用于确定一侧抛光的硅片表面质量的检验程序。
1.2 这种做法旨在作为一种大批量验收方法，因此不需要使用显微镜或其他光学仪器。由于检查依赖于操作员的视力，因此测试结果可能对操作员非常敏感。注 1：为了澄清某些观察到的缺陷的识别，可以采用实践 F154 中给出的程序。
1.3 抛光晶圆表面上肉眼可见的缺陷根据最能描绘缺陷的照明几何形状分为三组：前表面高强度光、前表面漫射光和后表面漫射光。这些缺陷有两个来源：（1）由硅晶体缺陷引起的缺陷，以及（2）与制造过程（包括处理和包装）相关的缺陷。
1.4 所述检查通常在抛光和抛光后清洁之后、包装之前进行。尽管清洁和包装程序不是该实践的一部分，但可以对包装的产品进行检查以确定此类程序对抛光晶片质量的影响。
1.5 以 SI 单位表示的数值应被视为标准。括号中给出的值仅供参考。
1.6 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。