DIN ISO 10110-14:2008
光学和光子学.光学元件和系统的图形制备.第14部分:波阵面变形公差(ISO 10110-14-2007).英文版本DIN ISO 10110-14-2008
Optics and photonics - Preparation of drawings for optical elements and systems - Part 14: Wavefront deformation tolerance (ISO 10110-14:2007); English version of DIN ISO 10110-14:2008-12
- 标准号
- DIN ISO 10110-14:2008
- 发布
- 2008年
- 发布单位
- 德国标准化学会
- 替代标准
- DIN ISO 10110-14 E:2017-04
- 当前最新
- DIN ISO 10110-14:2019-09
- 引用标准
- ISO 10110-1:2006 ISO 14999-4:2007 ISO/TR 14999-2
- 被代替标准
- DIN ISO 10110-14:2004
- 适用范围
- ISO 10110 系列适用于在用于制造和检验的技术图纸中描述光学元件和组件的设计和功能要求。 ISO 10110 的这一部分给出了指示通过光学元件或组件透射的波前的允许变形的规则，或者在反射光学器件的情况下，从光学元件或组件反射的波前的允许变形。波前的变形是指其偏离所需形状。波前相对于给定参考表面的倾斜不属于 ISO 10110 本部分的范围。不要求指示波前变形的公差。如果指定了这样的公差，则它不会优先于根据 ISO 10110-5 的表面形状公差。如果给出了表面形状和波前变形的公差，则必须同时遵守它们。
DIN ISO 10110-14:2008相似标准
DIN ISO 10110-5:2008 光学和光子学.光学元件和系统的图形制备.第5部分:表面形状公差(ISO 10110-5-2007).英文版本DIN ISO 10110-5-2008
DIN ISO 10110-14:2019 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 第14部分：波前变形公差（ISO 10110-14:2018）
DIN ISO 10110-14 E:2017-04 光学和光子学 光学元件和系统的图形制备 第14部分：波阵面变形公差
DIN ISO 10110-7:2009 光学和光子学.光学元件和系统的制图准备.第7部分:表面缺陷公差(ISO 10110-7:2008),DIN ISO 10110-7:2009-06的英文版本
NF S10-008-14:2007 光学和光子学.光学元件和系统的制图准备.第14部分:波阵面变形公差
推荐
光学实验室建造标准
第3级光学参考传递标准发布授权实验室能力的一般要求 德国标准化学会，关于光学实验室的标准 DIN EN ISO 9241-305-2009 人-机交互作用的人类工效学 第305部分:电子可视显示器用光学实验室试验方法 DIN EN ISO 11985-1998 眼科光学.隐形眼镜.由于暴露于紫外线和可见光射线造成的老化(实验室方法) 法国标准化协会，关于光学实验室的标准 NF X35-122...
生物毒性标准汇总
生物毒性试验用废弃物样品制备； 英文版本DIN EN 14735: 2005-11勘误表1 DIN EN 14735 Berichtigung 1-2006 废物特征.生物毒性试验用废物样品制备 DIN ISO 22030-2005 土质.生物方法.高等植物的慢性毒性 DIN 38412-48-2002 德国检验水、废水和污泥的标准方法.生物测定(L 组).第48部分:采用土壤细菌类...
谁引用了DIN ISO 10110-14:2008 更多引用
DIN ISO 10110-7:2018 光学和光子学.光学元件和系统的制图准备.第7部分:表面缺陷(ISO 10110-7-2017)
DIN ISO 14999-4:2016 光学和光子学.光学元件和光学系统的干涉仪测量.第4部分:ISO 10110规定的公差说明和评估(ISO 14999-4-2015)
DIN ISO 10110-5:2016 光学和光子学.光学元件和系统的图形制备.第5部分:表面形状公差(ISO 10110-5-2015)
DIN ISO 10110-12:2016 光学和光子学.光学元件和系统制图的制备.第12部分:非球面表面(ISO 10110-12-2007+Amd 1-2013)