核纯级氧化铪颗粒的标准规范 不是强制性中国国家标准,您可以免费下载预览页
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该方法人工修饰硅表面,最大峰谷粗糙度控制在几纳米的范围内,以检查下层粗糙度对覆盖层粗糙度的影响。关键覆盖层粗糙度由过渡RMS 粗糙度定义,3 nm 厚的氧化铪薄膜的过渡RMS 粗糙度为 0.18 nm。本文作者对量产的氧化铪薄膜粗糙度进行了测量研究,确认量产氧化铪薄膜粗糙度结果低于关键粗糙度设定的阈值。在500纳米的范围内,量产的氧化铪薄膜的RMS粗糙度为0.11 nm。...
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