平面磁控溅射靶材.光学薄膜用硅靶, 您可以免费下载预览页
找不到引用YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材.光学薄膜用硅靶 的标准
磁控溅射和离子束溅射的原理和性质01一般而言,“溅射”一词指的是通过离子轰击从固体中提取粒子(原子、离子或分子)。离子被加速朝向靶材,并与靶材原子碰撞。原始离子以及反弹的粒子穿过材料,与其他原子碰撞等等。大多数离子和反弹的原子仍然留在材料内部,但是一定比例的反弹原子通过这个多重碰撞过程散射到表面。这些粒子离开靶材,然后可能移动到基板上并形成薄膜。离子由气体放电输送,放电在靶材前面燃烧。...
Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved 京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号