四、真空法 这种方法是在高真空状态下令材料气化或离子化沉积于工件表面而形成镀层的过程。其主要方法是。 （一）物理气相沉积（PVD） 在真空条件下，将金属气化成原子或分子，或者使其离子化成离子，直接沉积到工件表面，形成涂层的过程，称为物理气相沉积，其沉积粒子束来源于非化学因素，如蒸发镀溅射镀、离子镀等。 ...
持久化学改进剂沉积在W,Zr碳化物涂层原子化器表面,改进剂分散更细和分布更均匀,可以改善PGM的催化效应;延长改进剂和石墨管的使用寿命,具有更好的长期稳定性;能提高分析物的热解温度;节省PGM用量,只相当于常规热解还原沉积法用量的1/100～1/50,缩短了分析时间。A.B....
Slavin对石墨管难熔金属碳化物涂层方面的文献作了归纳,涂层包括Hf,La,Mo,Nb,Ta,Ti,Zr,W和Y等。实际上,这些涂层虽然只是简单地改善了表面,修补了热解石墨层的缺陷,却能有针对性地解决问题,这也是此项技术广泛受到分析者青睐和欢迎的原因。难熔金属碳化物涂层一般分为两大类①物理蒸发沉积法;②溶液处理法(又分为在常压条件下的溶液处理法和在增压或减压条件下的溶液处理法)。...
二、几种常用的石墨管改进方法1、热解涂层石墨管热解涂层是目前对普通石墨管原子化器改性的最好、最适用的一种方法,工业化生产热解涂层石墨管是在炉温保持2000～2300℃和一定的真空度,在抽气的条件下,通入用氩气或氮气稀释的烃类化合物气体(如甲烷、丙烷),这些气体裂解后生成菱形片状的三维晶体沉积在普通石墨管上,碳沉积速度控制在≤0.1mm/h。...
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