ISO 17331 AMD 1-2010
表面化学分析.硅晶片加工标准物质表面元素收集用化学方法和及其光分析仪(TXRF)光谱学测定.修改件1

Surface chemical analysis - Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy; Amendment 1

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标准号

ISO 17331 AMD 1-2010

发布日期

2010年07月

实施日期

废止日期

无

中国标准分类号

G04

国际标准分类号

71.040.40

发布单位

IX-ISO

被代替标准

ISO 17331 DAM 1-2009

ISO 17331 AMD 1-2010 中可能用到的仪器设备