第4部分:铬量的测定 二苯卡巴肼分光光度法和电感耦合等离子体原子发射光谱法GB/T 13747.4-19922021-02-017GB/T 14849.1-2020工业硅化学分析方法 第1部分:铁含量的测定GB/T 14849.1-20072021-02-018GB/T 14849.3-2020工业硅化学分析方法 第3部分:钙含量的测定GB/T 14849.3-20072021-02-019GB/T...
13747.4-19922021/2/128GB/T 14849.1-2020工业硅化学分析方法 第1部分:铁含量的测定GB/T 14849.1-20072021/2/129GB/T 14849.3-2020工业硅化学分析方法 第3部分:钙含量的测定GB/T 14849.3-20072021/2/130GB/T 15076.11-2020钽铌化学分析方法 第11部分:铌中砷、锑、铅、锡和铋量的测定...
关键词Plasma 3000,Plasma 2000,工业硅,耐氢氟酸进样系统国家产品标准GB/T2881-2014《工业硅》中规定,检测工业硅中杂质元素采用电感耦合等离子体发射光谱仪测定。本实验参照标准GB/T14849.4-2014《工业硅化学分析方法第四部分:杂质元素含量测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法》测定工业硅中铝、铬、钙、硼、铜、铁、镁、镍、锰、磷、钠、钛的元素含量。...
/02/2021GB/T 14849.3-2020工业硅化学分析方法 第3部分:钙含量的测定GB/T 14849.3-200701/02/2021GB/T 15076.11-2020钽铌化学分析方法 第11部分:铌中砷、锑、铅、锡和铋量的测定 直流电弧原子发射光谱法GB/T 15076.11-199401/02/2021GB/T 15076.4-2020钽铌化学分析方法 第4部分:铁量的测定 1,10...
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