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後方散乱

後方散乱は全部で 89 項標準に関連している。

後方散乱 国際標準分類において、これらの分類：放射線防護、分析化学、語彙、金属材料試験、消防、長さと角度の測定、表面処理・メッキ、原子力工学、紙とボール紙、電子および通信機器用の電気機械部品、映画、光学および光学測定、電子表示装置、医療機器、放射線測定、道路工事、粒度分析、スクリーニング、地質学、気象学、水文学、建物の保護、農業機械、工具、設備。

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), 後方散乱

KS A 4508-2001 低後方散乱物質の散乱率の試験方法
KS A 4508-1985 低後方散乱物質の散乱率の試験方法
KS A 4816-1980(1995) 後方散乱X線低減塗料
KS A 4816-1985 後方散乱X線低減塗料
KS A 4816-2000 後方散乱X線を低減するコーティング
KS D ISO 3543-2002(2022) ベータ後方散乱法による金属および非金属の膜厚測定
KS A 4508-1980(2000) 低飛散率の飛散物の試験方法
KS A 4729-1997(2012) 飛散防止グリッド
KS A 4729-1997 抗X線散乱グリッド
KS F ISO 17497-1:2016 音響 - 表面音散乱特性パート 1: 残響室におけるランダム入射散乱係数の測定
KS F ISO 17497-1-2016(2021) 音響表面音散乱特性その1: 残響室におけるランダム入射散乱係数の測定

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, 後方散乱

GB/T 19501-2004 電子後方散乱回折分析法の一般原則
GB/T 19501-2013 マイクロビーム解析の一般原理電子後方散乱回折解析法
GB/T 36165-2018 電子後方散乱回折 (EBSD) 法による金属の平均粒径の測定
GB/T 30703-2014 マイクロビーム解析ガイドライン後方散乱電子回折方位解析手法
GB/T 38532-2020 マイクロビーム分析電子後方散乱回折平均粒径の決定
GB/T 25451-2010 重水炉原子力発電所における燃料要素の膜厚測定のためのベータ線後方散乱法
GB/T 20018-2005 金属・非金属皮膜の膜厚測定 β線後方散乱法
GB/T 21228.1-2007 音響学表面音散乱特性パート 1: 残響室内でのランダム入射音散乱係数の測定。

International Organization for Standardization (ISO), 後方散乱

ISO/CD 23699 マイクロビーム解析—後方散乱電子回折—語彙
ISO 3543:2000 金属および非金属コーティングの厚さ測定のためのベータ線後方散乱法
ISO 23749:2022 マイクロビーム分析、後方散乱電子回折、鋼中のオーステナイトの定量
ISO 24173:2009 マイクロビーム解析後方散乱電子回折を使用した指向性測定ガイド
ISO/DIS 24173:2023 マイクロビーム解析後方散乱電子回折を使用した配向測定ガイド
ISO 23703:2022 マイクロビーム解析電子後方散乱回折 (EBSD) を使用したオーステナイト系ステンレス鋼の機械的損傷評価のための方位解析ガイド
ISO 17867:2015 粒子径分析、小角X線散乱
ISO 17867:2020 粒子径分析、小角X線散乱(SAXS)

工业和信息化部, 後方散乱

YB/T 4677-2018 鋼の電子後方散乱回折 (EBSD) 法における集合組織の決定
HG/T 5507-2018 拡散フィルムを使用した光機能薄膜液晶ディスプレイバックライトモジュール

Association Francaise de Normalisation, 後方散乱

NF ISO 24173:2009 マイクロビーム解析後方散乱電子回折方位測定ガイド
NF X21-014:2012 マイクロビーム分析、後方散乱電子回折、平均粒子径の測定
NF X21-011*NF ISO 24173:2009 マイクロビーム分析のための電子後方散乱回折方向測定のガイド

Shanghai Provincial Standard of the People's Republic of China, 後方散乱

DB31/T 1156-2019 電気火災メルトマーク技術識別電子後方散乱回折法

British Standards Institution (BSI), 後方散乱

BS EN ISO 3543:2001 金属および非金属コーティングの厚さ測定ベータ線後方散乱法
BS ISO 13067:2011 マイクロビーム分析、反射電子回折、平均粒径測定
BS ISO 13067:2020 マイクロビーム解析電子後方散乱回折平均粒径の測定
BS ISO 23749:2022 マイクロビーム分析による鋼中のオーステナイトの定量的測定後方散乱電子回折
19/30365236 DC BS ISO 13067 マイクロビーム分析後方散乱電子回折平均粒径の測定
21/30398224 DC BS ISO 23749 マイクロビーム分析による後方散乱電子回折による鋼中のオーステナイトの定量的測定
23/30435799 DC BS ISO 24173 マイクロビーム分析による後方散乱電子回折を使用した配向測定のガイド
BS ISO 23703:2022 マイクロビーム解析電子後方散乱回折 (EBSD) によるオーステナイト系ステンレス鋼の機械的損傷を評価するための方向ずれ解析ガイド
21/30395106 DC BS ISO 23703 マイクロビーム解析電子後方散乱回折 (EBSD) によるオーステナイト系ステンレス鋼の機械的損傷の評価のための誤方位解析ガイド
BS ISO 17867:2015 粒子径分析、小角X線散乱
BS ISO 17497-1:2004+A1:2014 音響面の音響散乱特性残響室のランダム入射散乱係数の測定
BS ISO 17867:2020 粒子径分析小角 X 線散乱 (SAXS)
DD ISO/TS 13762:2001 粒度分析小角X線散乱
BS DD ISO/TS 13762:2002 粒子径分析小角X線散乱法

German Institute for Standardization, 後方散乱

DIN ISO 13067:2021-08 マイクロビーム解析電子後方散乱回折平均粒径測定
DIN ISO 24173:2013-04 マイクロビーム解析後方散乱電子回折を使用した配向測定ガイド
DIN ISO 13067:2021 マイクロビーム解析電子後方散乱回折平均粒径の測定 (ISO 13067:2020)
DIN ISO 24173:2013 マイクロビーム分析、後方散乱電子回折を使用した指向性測定のガイドライン (ISO 24713-2009)
DIN 51866-2:2001-08 温度測定パート 2: レイリー散乱とラマン散乱

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, 後方散乱

GB/T 41076-2021 マイクロビーム分析による鋼中のオーステナイトの定量分析電子後方散乱回折
GB 15208.5-2018 微量線量X線安全検査装置その5：後方散乱物品安全検査装置

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, 後方散乱

GB/T 34172-2017 マイクロビーム解析後方散乱電子回折金属・合金の位相解析法
GB/T 33699-2017 太陽資源からの散乱放射線の測定

Lithuanian Standards Office , 後方散乱

LST EN ISO 3543:2004 金属および非金属コーティングの厚さを測定するためのベータ後方散乱法 (ISO 3543:2000)
LST EN ISO 3543:2001/AC:2006 金属および非金属コーティングの厚さ測定のためのベータ後方散乱法 (ISO 3543:2000/Cor.1:2003)

Taiwan Provincial Standard of the People's Republic of China, 後方散乱

CNS 14931-2005 紙およびボール紙の不透明度（紙バッキング）試験方法 - 拡散反射率法
CNS 2387-1993 紙の不透明度試験方法 (反射率 89% の裏地)

Military Standard of the People's Republic of China-General Armament Department, 後方散乱

GJB 6924A-2021 ターゲットと海面背景の近接場電磁散乱特性のシミュレーション試験方法
GJB 6181-2007 ターゲットおよび背景放射輝度試験方法

American Society for Testing and Materials (ASTM), 後方散乱

ASTM F2359-04(2011) 拡散光源メンブレンスイッチのバックライト色の標準試験方法
ASTM E2627-13 完全に再結晶化された多結晶材料の電子後方散乱回折 (EBSD) を使用して平均粒子サイズを決定するための標準的な手法
ASTM E2627-13(2019) 電子後方散乱回折 (EBSD) による完全に再結晶化された多結晶材料の平均粒径を決定するための標準的な方法
ASTM D589-97 紙の不透明度を測定するための標準試験方法 (15°C 拡散光照明 A、89% 反射性バッキングおよび紙バッキング)
ASTM D589-97(2002) 紙の不透明度を測定するための標準試験方法 (15°C 拡散光照明 A、89% 反射性バッキングおよび紙バッキング)

Professional Standard - Machinery, 後方散乱

JB/T 12587-2016 リアプロジェクション透過型ハードスクリーン

RU-GOST R, 後方散乱

GOST R ISO 13067-2016 測定の一貫性を確保するための国家システムマイクロビーム分析後方散乱電子回折平均粒子径の測定
GOST 17038.8-1989 電離放射線シンチレーション検出器検出器のバックグラウンドおよび固有バックグラウンドの測定
GOST R ISO 17497-1-2011 音響学表面音の散乱特性パート 1: 残響室内でランダムに入射する音の散乱係数の測定。

Group Standards of the People's Republic of China, 後方散乱

T/ZZB 0215-2017 液晶バックライトモジュール用光拡散フィルム
T/CI 027-2021 LCDバックライトモジュール用量子ドット拡散板

ITU-R - International Telecommunication Union/ITU Radiocommunication Sector, 後方散乱

ITU-R SM.329-7-1997 スプリアス放射
ITU-R SM.329-9-2001 スプリアス放射*
ITU-R SM.329-8-2000 スプリアス放射*

SE-SIS, 後方散乱

SIS 13 61 04-1962 白色エナメルの散乱反射率および散乱係数の試験方法

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), 後方散乱

JIS Z 4910:2000 散乱防止格子
JIS Z 4910 ERRATUM 1:2000 散乱防止格子 (正誤表 1)

IET - Institution of Engineering and Technology, 後方散乱

PROPAG SCAT DISSPA ELECTRO WAV-1993 電磁波の伝播、散乱、散逸

Professional Standard - Medicine, 後方散乱

YY 0012-1990 飛散防止グリッド

Standard Association of Australia （SAA）, 後方散乱

AS/NZS 2891.14.4:1999 アスファルトのサンプリングと試験方法 - 磁場密度の測定 - 核表面水分 - 濃度計の校正 - 後方散乱モード
AS/NZS 2891.14.4:2013 アスファルトのサンプリングと試験方法磁場密度試験核表面水分濃度計の校正後方散乱モード

NZ-SNZ, 後方散乱

NZS/AS 1301.454S-1992 拡散反射率法による不透明度（台紙）の測定

(U.S.) Parachute Industry Association, 後方散乱

PIA PS22017B-2006 スナップオンパラシュートストラップクイックリリースカタパルト MS22017

Professional Standard - Forestry, 後方散乱

LY/T 1988-2011 林業機械ナップザック式高範囲スプレーダスター

SAE - SAE International, 後方散乱

SAE AMS3779/1B-2016 テープ付感圧放熱アルミ箔・ガラスクロス

KR-KS, 後方散乱

KS F ISO 17497-1-2016 音響音響散乱面の特性 - パート 1: 残響室におけるランダム入射散乱係数の測定

Professional Standard - Aviation, 後方散乱

HB 6742-1993 X線裏面照射ラウエ写真による単結晶ブレードの結晶方位の決定