外延片PL谱扫描成像仪PL/PLE光致发光谱测量系统

外延片PL谱扫描成像仪用于快速在线检测发光二极管外延片的质量，主要用于发光二极管外延片和芯片生产线．生成高分辨率的图谱和测定薄膜厚度等。本仪器为外延片生产工艺优化控制提供快速可靠的数据反馈．为高效高质量生产提供可靠保证。本成像仪现已成功应用于多条LED外延片生产线上。逐点扫描检测计算机分析计算外延片的积分光强，主波长，峰值波长，光谱半宽等参数以绘图形式显示分布和数据截面分布囤，显示单点光谱显示各个参数的统计结果显示选择范围的各项统计参数可进行局部扫描，并对扫描结果进行去孤立点和去边处理采用白光反射谱测量薄膜厚度并以绘图形式显示分布和数据配备离线数据处理软件本成像仪可靠。结构紧凑。全部检测和数据处理由计算机自动完成。采用用户友好的窗口界面，操作简便。用户仅需zei小的培训就可使用。另外可根据不同外延片，选配不同的激光器。

1 、光致发光样品腔

10x M-Plan镜头颜色修正，波长范围：350-1800nm

工作距离：30.5mm, 20mm FL, z轴可调

系统空间分辨率：10微米(1微米选配)

镜子带孔洞作为激光束及PL信号的通道

Iris光圈用于激光束的调整

可变ND过滤器用于激光能量的控制(99% to 2%)

10毫米孔洞PL信号校准镜头

马达控制的XY台，zei大速度30毫米/秒，1微米扫描分辨率

2 & 4外延晶片样品盘

包括高分辨控制器和电缆

2、IG512近红外光谱仪，900-1700nm, 512像素, InGaAs阵列

25um x 500um像素尺寸，14bits, 2.5MHz数字转换器, f/4, 40mm FL

探测范围：900nm全谱，300gr/mm, 1um blaze grating

包括SMA905, 400um多模光纤，1米长

3、EPP2000-VIS(350-1150nm)用于紫外-可见光，衍射光栅光谱仪

f/4, symX-Czerny-turner类型

分辨率：1.6nm (50um狭缝，@600gr/mm grating)

包括2048像素CCD探测器，12bit数字转换器

600gr/mm grating

接口：USB-2&平行

SMA905光纤光学输入，0.22NA，400um多模光纤，1米长

仪器特点


高品质及中等价位的PL扫描系统(高性价比)；

波长范围宽广(UV-VIS-NIR, 350nm to 2.2um)；

噪声低，高PL信号探测；

设计紧凑，易于调谐；

各种激发激光源可选；

易于发现峰及FWHM；

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途