仪器简介： 真空热压炉介绍： 本电炉主要供大专院校、科研单位针对无机材料在真空（或保护气氛）热压条件下进行烧结处理，以便获得高致密度的产品。 技术参数： 型号......
仪器简介： 真空钼丝炉简介： 该真空钼丝炉是周期作业式的立式真空电阻炉，适用于各种金属材料及其合金、非金属材料在高真空中进行退火、回火，亦可作为烧结、除气之用......
仪器简介： 真空碳管炉介绍 真空碳管炉用石墨作发热体的高温真空电阻炉，额定温度为2000℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。 技术......
仪器简介： 炉门口安装有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，并有多处洗炉膛进气口，出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳等气体，能抽真空，......
仪器简介： HMX系列气氛炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型，额定温度分别为1100℃......
仪器简介： 炉门口安装有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，并有多处洗炉膛进气口，出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳等气体，能抽真空，......
仪器简介： 一、真空高温炉应用领域 该真空高温炉以硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，真......
仪器简介： 这款井式炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，井式炉炉膛采用德国进口氧化铝多晶体纤维材料，双......
仪器简介： 本款井式炉以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和日本岛电40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，井式炉炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双......
仪器简介： 本款井式炉以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和日本岛电40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，井式炉炉膛采用1600型氧化铝多晶体纤维材料，双......
仪器简介： 这款高温炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风......
仪器简介： 本款高温炉以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，高温炉炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间......
仪器简介： 本款箱式炉以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和日本岛电40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1600型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳......
仪器简介： 本款高温炉以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，该炉具有温......
仪器简介： 这款管式炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，管式炉炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，管式炉双层......
仪器简介： 本款管式炉以1800型硅钼为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，管式炉炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双......
仪器简介： 这款管式炉以硅碳为加热元件，采用双层壳体结构和日本岛电40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1600型氧化铝多晶体纤维材料，管式炉双层......
仪器简介： 本款管式炉产品以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，管式炉炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，分为上下两个半圆......
仪器简介： 气氛炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间......
仪器简介： 气氛炉以硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速......
