研磨抛光机

MultiPrep™ 系统适用于高精微（光镜，SEM，TEM，AFM，etc）样品的半自动制备。主要性能包括平行抛光，精确角抛光，定址抛光或几种方式结合抛光。它保证良好的重现性，可以解决多用户使用的矛盾。 MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触。

• 测微计控制样品的设置
• 精确轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转。
• 数字千分表显示样品行程，增量1微米（实时）
• 双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），10°幅度， 0.02° 增量。
• 6倍速样品自动摆动。
• 8倍速样品自动旋转。
• 样品调整范围：0-600克（100克增量）
• 数字计时器与转速计
• 凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具。
• 符合CE标准
• 美国设计并制造

TechPrep™ 为MultiPrep™ 的定位装置提供电源。人性化的控制面板设计控制MultiPrep™所有功能。研磨盘转速范围（顺/逆时针）为5到350PRM。除触摸开关控制所有功能外，还有数字触摸键盘用于设置研磨盘速度、计时器、摆动与旋转设置。此系统用水符合冷却标准；自动滴液给料系统适用研磨悬浮液和润滑剂。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途