400-6699-117转1000
咨询列表
深圳精信立科技有限公司
您好，欢迎您查看分析测试百科网，请问有什么帮助您的？
| 参考报价： | 面议 | 型号： | TTT-07-UV Litho-ACA |
| 品牌： | 精信立 | 产地： | 广东 |
| 关注度： | 1 | 信息完整度： |  |
| 样本： | 典型用户： | 暂无 | |
| 产地类别 | 国产 | 供应商性质 | 生产商 |
| 曝光模式 | 投影式 |
400-6699-117转1000
产品简介
当代集成电路的发展进程中，紫外光刻技术起着不可替代的作用。利用紫外光源对紫外敏感的光刻胶进行空间选择性的曝光，进而将设计好电路版图转移到硅片上形成集成电路，这一工艺就是紫外光刻技术。光刻机的分辨率和套刻精度直接决定了所制造的集成电路的集成度，也成为了评价光刻设备品质的关键指标。
常规光刻机需要定制光学掩模板，不但价格高，且灵活性差。任何设计上的变动，都需要重新制造掩模板。激光直写设备具备很高的灵活性，且可以达到较高的精度，但由于是逐行扫描，曝光效率较低。近些年，基于空间光调制器（DMD/DLP）的技术在紫外曝光方面获得了长足的进展。
TTT-07-UV Litho-ACA无掩模板紫外光刻机最小分辨率可达1 μm（光刻镜头B），高性能无铁芯直线驱动电机保证了极佳的套刻精度和最大6英寸的图形拼接，而基于空间光调制器的光刻技术，使得其在光学掩模板设计上有着得天独厚的优势。高效、灵活、高分辨率和高套刻精度等众多优点，必将使其成为二维材料、电输运测试，光电测试、太赫兹器件和毫米波器件等领域的科研利器。
系统结构图
TTT-07-UV Litho-ACA的光刻实例
产品亮点
1、高精度、真紫外曝光
2、光刻图案设计灵活
3、所见即所得的精准套刻
4、超大面积拼接
5、灰度曝光
6、高稳定性，操作便捷
系统升级选项
1、激光光源
2、主动隔振平台
3、三维重构观测
4、手套箱内集成
关键技术指标（TTT-07-UV Litho-ACA）
曝光机基础参数 | 曝光光源 | 405nm LED |
数字掩模板分辨率 | 1920×1080像素 | |
光刻参数 | 观测镜头 | 大范围样品观测2.6 mm×1.7 mm |
光刻镜头A | 1.5 μm（确保值），0.4 mm×0.4 mm，20 mm2/min（50%占空比） | |
光刻镜头B | 1 μm（确保值），0.16 mm×0.16 mm，3 mm2/min（50%占空比） | |
显微观测参数 | 照明光源 | 强光LED |
相机 | 大靶面工业相机，实时图像采集 | |
尺寸测量 | 线宽测量 | |
套刻参数 | 精准套刻 | 单画幅套刻精度：350nm（指引光） 全画幅套刻精度：500nm（全局畸变矫正算法） |
套刻指引 | 520 nm/620 nm，实时虚拟曝光投影，实现所见即所得 | |
运动台参数 | 电动位移台 | 类型：高性能无铁芯直线驱动电机 行程：150 mm 步进精度：50 nm（直线光栅尺精度） 双向重复定位精度：±100 nm |
自动对焦模组 | 机器视觉智能主动对焦功能 支持样品厚度：0-15 mm（运动台行程20 mm） 定位精度：50 nm | |
旋转位移台 | 类型：手动 行程：细调范围±5°，粗调范围320° | |
电动物镜切换线轨 | 支持三个物镜的快速切换（<200 ms） 重复定位精度优于300 nm | |
基片参数 | 支持基片尺寸 | 3 mm×3 mm（最小），150 mm×150 mm（最大） |
其他参数 | 软件 | 全自动光刻控制软件 集成深度定制的矢量图转像素图软件 |
设备尺寸 | 设备主体：79 cm（长）×70 cm（宽）×68 cm（高） 机柜：60 cm（长）×80 cm（宽）×100 cm（高） | |
设备重量 | 200 kg | |
设备外壳 | UV防护外壳 | |
附属配件 | 含光学平台，电脑，无线键鼠，真空泵 | |
环境控制 | 机体内除湿装置 |
安装要求
温度 | 20 – 40℃ | 湿度 | RH< 60 % |
电源 | 220V，50Hz |
应用示例
?微流道芯片
?二维材料的电极搭建
?微纳结构曝光
?太赫兹/毫米波器件制备
?电输运测试/光电器件测试
?光学掩模板的制作
无掩模板紫外光刻机 TTT-07-UV Litho-ACA信息由深圳精信立科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于无掩模板紫外光刻机 TTT-07-UV Litho-ACA报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
