Lauda Semistat 半导体专用工艺过程恒温器

发布时间：2023年03月

Lauda Semistat 半导体专用工艺过程恒温器

LAUDA Semistat热电过程恒温器 适用于 -20 至 90 °C 的半导体行业

为苛刻的工艺过程快速和精确的温度控制

热电温度控制系统LAUDA Semistat为等离子刻蚀工艺提供稳定的可重复性的温度控制。系统动态地控制静电卡盘(ESC)的温度并可以用在任何的刻蚀工艺中。LAUDA Semistat 热电温度控制系统设计的基础是基于帕尔帖原理的温度转换， 这些原件可以实现快速且精准的温度控制，满足了当今元器件生产尺寸越来越小的要求。

与基于压缩机的系统相比，热点在线使用 Semistat 温度控制系统，降低能耗多达 90 %。可安装在使用地点的地下，非常节省空间，这样最大限度地减少无尘室的使用。快速和精准地将过程温度曲线控制在 ±0.1 K，从而提高晶圆间均质性。

产品型号：S 1200/ S 2400/ S 4400

低能耗，没有压缩机和制冷剂的系统

占地空间小，如果放置在地板下方则不占用Sub-Fab

极低的导热液体填充量

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途