Monowave 300 为微波合成研究提供了一个全新和先进的工具，使微波合成达到了前所未有的可靠性和性能。

Monowave 300提供300C和30 bar（435psi）的zei高单模微波工作温度和压力，为合成方法开发和反应优化提供了全新空间。

Monowave 300zei高的微波场密度保证了在任何反应体积、任何反应溶剂都能得到可重复的和出色的加热速率，无需使用任何辅助加热元件。zei先进的红宝石晶体发光光纤传感器保证了实时的反馈控制，同时也实现了zei高精度的温度测量。

超乎想象

Monowave 300可以使您能在以前不可能达到的条件下使用某些试剂和溶剂。使您能突破常规单模合成的限制进行方法的开发，来研究温度和压力的提高对反应活性和反应过程的影响。

就利用Monowave 300的高效搅拌和标准内置温度测量来试一下您的第一个微波反应。纸上没有吹嘘，但是终究百闻不如一见。。。。

您能感受到的独特优势
 快速和一致的加热
 方便内部温度测量
 zei高的准确性和再现性
 新方法开发的新空间
 强力的搅拌有助益混合
 用户友好的智能软件
 内置8.4’’触摸屏控制器

满足多领域的应用的伙伴

制药研究：
 方法开发和优化
 构建单元合成
 中间体修饰和骨架分子修饰

有机化学:
 杂环合成
 金属催化
 键形成反应
 缩合反应
 加环反应
 固相合成

生物医药:
 衍生反应
 多肽合成

材料化学:
 纳米颗粒制备
 分子筛合成
 高分子材料合成

--实现zei高的单模合成条件：300C和30 bar（435psi）
--zei高850W 连续非脉冲微波
--zei高的微波场密度
--超常的加热速度（3-9C/秒）
--600rpm高效磁力搅拌速度
--自动调谐微波腔保证不同体积和极性的溶剂的高效加热

--- 全面反应控制记录
 内置液压传感器使反应范围更广
内置红外温度传感器进行常规温度测量
先进的光纤温度传感器实现对反应的精确控制
自动式气动控制过压安全释放功能


--- 8.4英寸触摸屏控制系统
全新智能控制软件，具有逻辑触摸屏导航
明亮的大控制图标使操作简单容易
不同操作者设定不同控制权限
内置AFAP快速加热模式或自己设定多步反应程序
重要样品可设定优先排队选项

---- 完整的数据管理
彩色反应曲线图同时显示所有相关参数
局部放大功能进行可获得更详细信息
方法库zei多可存1000个实验
可通过USB进行数据导出
直接生成pdf格式的反应报告