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牛津仪器Ionfab300刻蚀和沉积设备
品牌:牛津仪器型号:Ionfab300产地:欧洲Ionfab 300 IBE离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项,包括直开式......
牛津仪器Ionfab300刻蚀和沉积设备
Ionfab 300 IBE离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项,包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际......
牛津仪器
品牌:牛津仪器型号:Ionfab300产地:欧洲Ionfab 300 IBD客户选择我们的离子束沉积产品是因为它们能够生产具有高质量,致密和表面光滑的沉积薄膜。......
牛津仪器Ionfab300刻蚀和沉积设备
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牛津仪器PlasmaPro100
PlasmaPro100 EstrelasPlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻(DSiE)领域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统......
牛津仪器PlasmaPro100
牛津仪器科技(上海)有限公司提供的牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备,型号为PlasmaPro100 Estrelas的牛津仪器半导体行......
牛津仪器PlasmaPro100
PlasmaPro 100 Estrelas平台旨在确保覆盖MEMS,先进封装和纳米技术的广泛应用,从光滑侧壁工艺到高刻蚀速率腔刻蚀、高深宽比工艺和锥形通孔刻蚀......
牛津仪器PlasmaPro100
品牌:牛津仪器型号:PlasmaPro100 Estrelas产地:欧洲PlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻(DSiE)领域的全方......
牛津仪器PlasmaPro100
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牛津仪器Etch刻蚀工艺
电介质刻蚀(Ta2O5)—五氧化二钽刻蚀Al2O3—刻蚀氧化铝—感应耦合等离子体刻蚀蓝宝石GST刻蚀- 锗锑碲化物的ICP刻蚀技术感应耦合等离子体刻蚀Bi2Te......
牛津仪器Etch刻蚀工艺
品牌:牛津仪器型号:Etch产地:欧洲有了在刻蚀工艺发展上无比广泛的经验和我们应用工程师的支持, 牛津仪器向世界范围内的生产商和研发者提供刻蚀工艺解决方案的经验......
牛津仪器Etch刻蚀工艺
 牛津仪器Etch刻蚀工艺 有了在刻蚀工艺发展上无比广泛的经验和我们应用工程师的支持, 牛津仪器向世界范围内的生产商和研发者提供刻蚀工艺解决方案的经验......
牛津仪器Etch刻蚀工艺
请与我们联系,讨论您的特定需求,我们专业的销售和应用工作人员将很高兴帮助您选择合适的刻蚀工艺和工具,以满足您的需求。有了在刻蚀工艺发展上无比广泛的经验和我们应用......
牛津仪器Etch刻蚀工艺
有了在刻蚀工艺发展上无比广泛的经验和我们应用工程师的支持, 牛津仪器向世界范围内的生产商和研发者提供刻蚀工艺解决方案的经验向我们提供了强大的刻蚀工艺库和刻蚀工艺......
牛津仪器PlasmaPro
PlasmaPro 100 ALEPlasmaPro 100 ALE为下一代半导体器件材料刻蚀提供精确的工艺控制。该系统的数字化/循环刻蚀工艺专门针对GaN H......
牛津仪器PlasmaPro
PlasmaPro 100 ALE为下一代半导体器件材料刻蚀提供精确的工艺控制。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电......
牛津仪器PlasmaPro
牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaP......
牛津仪器PlasmaPro
品牌:牛津仪器型号:PlasmaPro100 ALE产地:欧洲PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳......
牛津仪器PlasmaPro
PlasmaPro 100 ALE 的特点:准确的刻蚀深度控制;光滑的刻蚀表面低损伤工艺数字化/循环式刻蚀工艺——刻蚀相当于ALD高选择比能加工最大2......
牛津仪器ANDOR
科学相机可以解决“快”的问题,单反相机连拍功能可以每秒连拍几张照片,而科学相机则可以达到成千上万幅的帧速。而快速成像在物理科学、生命科学等领域都有着广泛的应用。......
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