多阵列杂交工作站HybMix S4具有高效的振荡系统和精确的温度控制系统，多阵列杂交工作站是微阵列玻片和多个子阵列（多阵列玻片）杂交成功的有力杂交工作站。

多阵列杂交工作站特点

可以杂交多达4个载玻片。微阵列玻片受到精确温度控制，与载玻片架直接接触，一起受到精确的温度调节控制。控制温度的范围从室温至105℃，温度精度高达+/- 0.1℃。这款多阵列杂交工作站集成了轨道振荡器，提供从300至900rmp的可调转速控制，有效提高杂交和结合反应成功率。
多阵列杂交工作站采用国际一流的用户友好界面，操作方便;用户可以设置温度，杂交持续时间和振荡速度。
温度，时间和振荡速度显示于仪器前方的宽屏显示屏上，用户可以在任何时间调整参数。
多阵列杂交工作站优势
Peltier温度控制技术精确控制温度
精确温度调节
集成了轨道振荡系统
前部具有显示和控制面板
用户友好的操作界面
多阵列杂交工作站参数
温度范围：室温到105摄氏度
加热/制冷系统：温控Peltier技术，温度分辨率 0.1 °C
振荡系统：轨道振荡器速度300-1500RPM可调
用户界面：高级荧光显示屏VFD， 8个编程控制操作键
尺寸(LxDxH)： 29.5 x 26.5 x 17.0 cm
电力要求： 220 V, 50/60 Hz, 125 W
重量：8.5kg

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途