这款紫外曝光机非常适合对紫外光敏感层的处理，是理想的紫外掩曝光机系统。

应用：紫外曝光机适合光学，生物，微纳科技，光刻等领域需要1-2掩膜的应用。

紫外掩曝光机特点

1)完美的单色曝光，曝光带宽小于10nm;

2)冷紫外曝光，衬底环境温度实时控制，从而实现均匀曝光，消除热效应；

3）超强的功率密度

4） 紫外LED寿命更长，高达10000小时；

5）方便用户使用的触摸屏配置；

6） 不需要预热；

7）计算机控制紫外光源强度调节；

8）自动晶圆装载和卸载功能；

9）超低能耗；

紫外掩曝光机参数

分辨率：2微米

发射光谱：365+/-5nm,  385+/-5nm
4英寸晶圆照明： 25mW/cm^2 +/-10%

暴晒时晶圆温度加热:<1摄氏度
暴晒循环：1秒~18小时
记忆的曝光循环数： 10个

功率：180W

重量：8.2kg

尺寸: 260x260x260mm^2
电源： 110V/230v50Hz 

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途