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  • 为什么使用原子层沉积(ALD)方法对电极材料进行包覆是必要的? 发布时间:2024-05-23 14:26
  • 为什么使用原子层沉积(ALD)方法对电极材料进行包覆是必要的?锂电池电极由各种类型的粉末制备合成,对粉末材料表面进行包覆已经成为提高电池性能的有效策略。尤其在固态电池中,固体电解质颗粒(SSA) 和电极组合之间的界面兼容性问题仍然存在,通过界面涂层可有效地解决这一问题。 因此,电极表面工程...... [全文]
  • 【扫描电镜应用】说到安全,电动自行车多跟电动汽车学学吧! 发布时间:2024-05-21 16:04
  • 扫描电镜是用于样品微区形貌、结构及成分的观察和分析的仪器。电子枪发射的电子束在扫描电镜镜筒中,通过电磁透镜聚焦和电场加速,入射到样品表面,束电子与样品原子核或核外电子发生多种相互作用,从而产生各种反映样品特征的信号。这些信号包括:二次电子、背散射电子、X 射线等。其中,二次电子和背散射电子...... [全文]
  • 显微CT无损检测技术,在增材制造和粉末冶金领域发挥什么作用? 发布时间:2024-05-20 13:34
  • 随着科技的飞速发展,显微 CT 技术在各个领域的应用愈发广泛,尤其是在增材制造和粉末冶金领域。显微 CT 技术以其高分辨率、非破坏性的特点,为微观层面的材料结构和缺陷分析等提供了独特的解决方案,为增材制造和粉末冶金行业的发展注入了新的活力。 Part 01.什么是显微 ...... [全文]
  • 【纳米颗粒制备技术】干法气溶胶纳米打印技术可以用在哪些领域 发布时间:2024-05-16 11:07
  • 上一篇文章我们简单的认识了干法气溶胶纳米打印技术,一种基于气溶胶的直写方法能够实现具有独特性能的无机纳米结构材料的打印直写。那么本篇文章我们来简单介绍一下干法气溶胶纳米打印技术可以用在哪些领域?使用纳米印刷沉积系统,可以自动的打印不同成分和/或层厚的纳米多孔材料。在电催化、气体传感器和 SERS 领...... [全文]
  • 【纳米颗粒制备技术】干法气溶胶纳米打印技术,加速材料研发进程 发布时间:2024-05-15 11:50
  • 增材制造的方法,如纳米打印可以大大简化高比表面积的纳米多孔薄膜的制备工艺。这种薄膜材料的应用很多,包括电催化、化学、光学或生物传感以及电池和微电子产品制造等。 因此,一种基于气溶胶的直写方法能够实现具有独特性能的无机纳米结构材料的打印直写。 印刷涂层的颗粒由 纳米粒子发生器产生,...... [全文]
  • 台式场发射扫描-透射(SEM—STEM)电子显微镜应用案例分享 发布时间:2024-05-14 14:49
  • 在材料研发的过程中,检测材料的形貌细节和品质,需要全方位地了解样品。扫描电镜是科学研究过程中强有力的表征工具,高分辨成像可以揭示材料细节。现在一些比较高端的扫描电镜可以提供一种先进的成像技术--透射模式(Scanning transmission eletron microscopy,STEM),这...... [全文]
  • 原位样品杆知识:原位透射电镜技术的未来展望 发布时间:2024-05-13 13:20
  • 在科学研究和工业应用中,观察和理解材料的微观结构和性质是至关重要的。原位透射电镜允许研究人员在实时观察和操控样品的条件下进行高分辨率成像和表征。并能够实现直接从原子层次观察样品在力、热、电、磁作用下以及在化学反应过程中研究材料的结构和行为,并直接观察相变、位错运动、晶体生长等动态过程。前面我们已经简...... [全文]
  • 【扫描电镜原理】低加速电压成像 发布时间:2024-05-11 13:29
  • 【扫描电镜原理】低加速电压成像扫描电镜的加速电压与束流强度对成像有着决定性的影响。通常来说,操作人员更愿意使用更高的加速电压去成像,当加速电压较大时,信噪比更好,分辨率更高,更容易得到“清晰”的图像。但低加速电压却是当今扫描电镜的发展趋势,这是什么原因呢?今天,这篇文章将围绕“低加速电压成像”展开讨...... [全文]
  • 【台式透射电镜】如何解读生物组织 TEM 超微结构?专家实例分享 发布时间:2024-05-10 11:20
  • 【台式透射电镜】如何解读生物组织 TEM 超微结构?精准医学研究院电镜平台专家实例分享近期飞纳台式场发射扫描透射电子显微镜 Phenom Pharos G2 STEM 在上海精准医学研究院(以下简称精准院)电镜平台成功落户,完成装机验收。精准院电镜中心成立于 2017 年 11 ...... [全文]
  • 原子层沉积 ALD工艺揭秘:从效率、温度到涂层类型的全方位探讨 发布时间:2024-05-08 15:09
  • 在上篇文章中,我们结合具体案例为大家介绍了原子层沉积技术的概念、原理和特点。阅读推荐:一文了解原子层沉积(ALD)技术的原理与特点还有很多朋友提问化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)的区别,我们从反应效率、均匀性以反应温度三方面来进行说明。在化学气相沉积( CVD) 中,前驱体被同时且连续地...... [全文]
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