原子层沉积(ALD)ForgeNanoTHEIA

THEIA 超快平面原子层沉积系统以高性能、稳定和灵活为特点，能够满足科学研究的各种需求，并且无缝衔接研发和生产之间的转换。
产品规格：
1. 专利技术SMFD-ALDTM，超快沉积速度为12-30nm/min
2. 低维护周期：平均每50μm沉积后维护一次
3. 专利阀门：可实现小于1ms的开关控制，寿命达到1亿次循环，在220℃下长期稳定工作
4. 薄膜不均匀度小于1%
5. 可容纳3片75-300mm基片，300×300×10mm的腔室
产品特点：
THEIA 解决了困扰ALD工艺多年的效率与维护问题。ALD虽然能够良好控制薄膜厚度和均匀性，但由于效率不高，市场容量仍然低于CVD。
ForgeNano拥有SMFD-ALDTM超快沉积技术，实现最快12-30nm/min的沉积效率，将ALD沉积效率提升到新的高度。同时，实现了前驱体高利用率和低维护成本。与CVD相比，THEIA的集成减排设计可以实现污染物零排放，避免环境污染问题，节约大量成本，为ALD工艺提供了新的参考标准。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途