THEIA超快平面原子层沉积系统

THEIA 超快平面原子层沉积系统

THEIA 是一款高性能，稳定，灵活，可靠且安全的研发型原子层沉积系统，兼具工业生产解决方案的优势。THEIA 可进行升级改造，从而满足科学研究的各种需求，并实现从“研发”到“生产”的无缝衔接。

产品规格

1. 专利技术 SMFD-ALDTM 超快沉积：12-30 nm/min

2. 低维护周期：平均每 50 μm 沉积后维护一次

3. 专利阀门：可实现 <1ms 开关控制，寿命可达 1 亿次循环，在 220℃ 下长期稳定工作

4. 薄膜不均匀度 <1%

5. 可容纳 3 片 75-300mm 基片，300×300×10mm 的腔室

产品特点

THEIA 解决了困扰 ALD 工艺多年以来的问题：效率与维护。ALD 虽然拥有较好的膜厚控制与均一性，但因为效率不高，市场容量仍然低于 CVD。Forge Nano 拥有 SMFD-ALDTM 超快沉积技术，可实现最快 12-30nm/min 的沉积效率，将 ALD 沉积效率提升到新的高度。同时实现前驱体高利用率以及低维护成本，与 CVD 相比，THEIA 的集成减排设计可以实现污染物“零排放”，避免了环境污染问题，节约大量成本，为 ALD 工艺提供了新的参考标准。

THEIA超快平面原子层沉积系统信息由复纳科学仪器（上海）有限公司为您提供，如您想了解更多关于THEIA超快平面原子层沉积系统报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途