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X荧光光谱、XRF(能量色散型X荧光光谱仪)
HITACHI
■ 即放即测:无需人工对焦造成误差,测量结果更可靠。■ 测试速度快:3秒自动对焦,10秒钟完成50nm级极薄镀层的测量。■ 无标样......
OLYMPUS
特点说明:    DELTA提升了比以往更高阶的硬件规格,除了更符合人体工学的外观设计外;较大的输出功率及大面积的检测器,增加了仪器对各元素......
OLYMPUS
Olympus 推出新型手提式金属型号判别XRF设备 ? 新型手提式XRF只针对金属回收及金属型号判别,使用上更为简易成本更低,&......
OLYMPUS
产品特色■特点说明:? DS-4000-土壤环境机型,适用於土壤分析,对於土壤中高铁(Fe)及高矽(Si)的干扰都已有良好的测试。此仪器符合台湾环保署的土壤污染......
OLYMPUS
■特点说明:? DELTA-6000机型,适用於高浓度的金属(金属氧化物)矿物分析,对於常见的金矿(Au)、铜矿(Cu)、铬矿(Cr)、镍矿(Ni)、铁矿(Fe......
HITACHI
EA1400全新的硅漂移探测器(SDD)设计能提高分析镉和铅等RoHS物质的准确度和速度。新优化的x射线照射方法可提高分析不平坦和不规则表面的可重现性。此外,高......
日本日立FT110XRF萤光镀层厚度测量仪
  FT-110通过自动定位功能,仅需把样品放置到样品台上,就可在数秒内对样品进行自动对焦。由此,无需进行以往的手动逐次对焦的操作,大大提高......
HITACHI
  EA1000VX具有高灵敏度和高分辨率,更是配合了独自开发的高计数率的X射线荧光 X射线检测器(Vortex SDD),使得检测灵敏度有了飞跃般的......
HITACHI
EA1000AIII是一台针对ROHS无卤指令中所禁止使用的有害物质元素进行快速便捷非破坏测量的能量色散型X射线荧光分析仪。除具备以往SEA1000系列的功能外......
HITACHI
       EA1200VX采用高计数率设计的Vortex高分辨率之硅半导体多阴极检测器,计数率可达150,000 c......
HITACHI
产品特色:1.单镀层、多镀层膜厚测量。2.采用聚光式的极小光束(0.1 mm)设计,对於镀金膜浓的测定可测量到比以往机型强50倍的X射线强度,能精确的测量纳米等......
HITACHI
       EA6000VX是一款结合精密光学系统,准确快速移动平台,微小准直器高端Vortex检测器和特殊滤波器的高......
X射线荧光分析仪
产品特色: 1.各大SJ可λ芰霞半子元件中有害重金zy之X射光分析x 2.裼酶哽`敏度矽半wy,o液B氮 3.配CCDO器 4.具湫睢⒑穸取⒉馁|a正弁?Se......
线上X萤光分析仪
a品特色 Innov-X楣I及科技aI,研lzei新FOX-IQ高科技u程化W元素成分自涌刂葡到y,可24小ro人工S提供zei精省⒆钣行实纳a控制系y。透^......
高速金属材料回收自动分析分类仪
环境保护已经是一个公共的课题,废弃物分类回收更是环境保护及资源再利用的一个重要议题,针对废弃物分类回收(scrap),以往都是利用人去做分类工作,不仅人力成本......
手持式XRF分析仪
特cf明: » DELTA提升了比以往更高A的硬w瘢烁先梭w工W的外^O外;^大的出功率及大面e的zy器,增加了x器Ω髟氐撵`敏度,K大幅降低了z......
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