Rave光罩雾化污染去除系统

技术参数：

Rave 公司成立于1996，是专业从事开发和生产先进光罩修复（Advanced Mask Repair）及光罩雾化污染去除系统 ( Haze Removal)的设备供应商。目前，Rave在光罩领域的市场占有率已达到世界第一，成为了这一行业的领导者和开拓者。

主要特点：

光罩雾化污染去除系统 Rhazer

◆雾化污染的去除率高：100% （只去除污染物，无需去除表面薄膜），无相位角损失； 
◆光罩材料：Chrome, MoSi, Quartz； 尺寸：150mm x 150mm x 25mm； 
◆高效：干法工艺，无需除去薄膜； 
◆低CoO：极大地提高了Haze污染的管理效率和光罩使用周期，提升良率； 
◆全自动化运行，占地面积小，无有害气体或液体，无需消耗去离子水、酸液等化学品。 


先进光罩修复系统nm450 

◆适用于各种类型的纳米级光罩的修复并有助于32nm光罩的研发； 
◆独立的材料合成以及材料接触面控制（Chrome, MoSi, Quartz, EUV, Foreign Materials）。无需复杂的工艺气体、操作及应用十分方便、全自动运行模式、便利的操作界面控制； 
◆极强的深度控制--（z）控制，3 nm (3Σ from Target) 适用于所有材料； 
◆边缘的布置--5 nm (3Σ from Target)，适用于所有材料； 
◆重复修补及平面材料去除能力保证了非常宽的“through focus” 传送窗口； 
◆在光罩修复领域nm450的市场占有率为全球第一。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途