表面处理仪等离子清洗机CPCP-G系列CIF

CIF推出了专为粉体样品设计的CPCP-G系列新一代等离子清洗机，具有搅拌功能，采用质量流量计（MFC）气体输送控制。这款清洗机具有以下主要特点：专业处理大量样品、快速高效、动态清洗、均匀处理、无死角、无污染、准确气体输入。技术参数如下：
- 型号：CPCP-G和CPCP-Gplus
- 舱体尺寸：H120XΦ370mm
- 舱体容积：12.8L
- 石英转瓶尺寸：Φ286xH88mm
- 转瓶转速：1-15rpm/秒可调
- 射频电源：40KHz和13.56MHz
- 匹配器：自动匹配
- 射频功率：10-300W可调
- 气体控制：质量流量计（MFC）（标配单路，可选双路）
- 产品尺寸：L618xW520xH665mm

这款清洗机能有效地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料，解决了传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。等离子体作用在粉体上，可以有目的地改变粉体的物理化学性质，在保持粉体原有性能的前提下，赋予其表面新的性能，使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水性变为疏水性，从而改善粉体粒子表面的浸润性，增强粉体粒子在介质中的界面相容性，使粒子容易分散在水中或有机化合物中。粉体材料表面改性是材料制备，新材料、新工艺和新产品开发的重要方法，提高了粉体材料的附加价值，扩大了粉体材料的应用领域。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途