CPC-10/PlusCIF表面处理仪

CIF推出了全新一代CPC系列桌面型的等离子体清洗设备，可以进行可中试生产，并模拟生产条件。这款设备几乎包含了等离子体清洗设备的所有功能。它具有较大的腔体尺寸和样品处理面积，成本低，性价比高，易于维护，处理速度快且高效，特别适合于大学、科研院所和光电企业的实验室小批量中试生产。产品特点包括：可以模拟生产条件，便于小批量中试生产；桌面型，占用空间小；性能稳定，操作简便，使用成本低，易于维护，性价比高；有效的处理面积大，可以处理8寸硅片去胶等应用；可以处理不同几何形状、表面不同粗糙程度的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等样品，进行清洗和改性。技术参数如下：型号CPC-10和CPC-10plus；舱体尺寸分别是D300xΦ215mm和D300xΦ215mm；舱体容积是10.8L和10.8L；射频电源分别是40KHz和13.56MHz；匹配器为自动匹配；射频功率分别是10-300W可调和10-150W可调；气体控制为双浮子流量计（标配）；最大处理尺寸为L215xW300mm；产品尺寸为L555xW480xH525mm；包装尺寸为L680xW605xH790mm；时间设定为1-99分59秒；真空泵抽速约8m3/h；气体稳定时间为1分钟；真空度为100pa以内；电源为AC220V50-60Hz。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途