等离子清洗机CPCP-G系列CPCP- G/plus表面处理仪

CIF推出了专为处理粉体样品而设计的CPCP-G系列新一代等离子清洗机，具备搅拌功能，采用质量流量计（MFC）气体输送控制。这款设备具有以下主要特点：专业处理大量样品、快速高效、动态清洗；处理均匀，无死角，无污染，气体输入准确。技术参数如下：
型号：CPCP-G
舱体尺寸：H120XΦ370mm
舱体容积：12.8L
石英转瓶尺寸：Φ286xH88mm
转瓶转速：1-15rpm/秒可调
射频电源：40KHz13.56MHz
匹配器：自动匹配
射频功率：10-300W可调
气体控制：质量流量计（MFC）（标配单路，可选双路）
产品尺寸：L618xW520xH665mm。这款等离子清洗机专为处理粉末和颗粒状材料等粉体样品而设计，可以高效地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料。传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题，而这款设备可以有目的地改变粉体的物理化学性质，在保持粉体原有性能的前提下，赋予其表面新的性能，从而提高了粉体材料的附加价值，扩大了其应用领域。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途