Advance Riko 红外金-平面反射炉

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该系列应用广泛，从碳纳米管生产系统到产线生系统；

平面金反射炉可用于2~12英寸圆晶的退火炉和产品的烘干炉；

应用：

加热大的玻璃基片（太阳能电池，平板显示面板等）；

高温快速加热半导体圆晶；

仪器特点：

Ps类型含有40mm宽分反射面，Pss类型含有20mm宽的反射面，这可以在其中放置高密度的红外灯；

Ps和Pss都可以增加反射面来增加加热宽度；

仪器参数：

Type	Ps15V	Ps18V	Ps110V	Pｓ116V
Heating Zone	approx. 30 mm x 50 mm	approx. 30 mm x 70 mm	approx. 30 mm x 90 mm	approx. 30 mm x 140 mm

Type	Ps35V	Ps38V	Ps310V	Ps316V
Heating Zone	approx. 80 mm x 50 mm	approx. 80 mm x 70 mm	approx. 80 mm x 90 mm	approx. 80 mm x 140 mm

Type	Pss34V	Pss78V	Pss1108V	Pss35V
Heating Zone	approx. 50 mm x 30 mm	approx. 100 mm x 30 mm	approx. 100 mm x 110 mm	approx. 50 mm x 50 mm

Type	Pss38V	Pss310V	Pss316V	Pss98V
Heating Zone	approx. 50 mm x 70 mm	approx. 50 mm x 90 mm	approx. 50 mm x 140 mm	approx. 150 mm x 140 mm

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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