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高真空镀膜机 Leica EM ACE600可用于原料药/中间体,药品包装材料/辅料,橡胶,塑料,纤维,涂料,地矿/钢铁/有色金属,电子

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参考报价: 面议 型号: Leica EM ACE600
品牌: 徕卡 产地: 德国
关注度: 928 信息完整度:
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AI问答
可以做哪些实验,检测什么? 可以用哪些耗材和试剂?

通常情况下,离子束切割技术制备平整断面时,以片状为主来做离子束切割,以块状待加工面积较大时,采用旋转抛光的方式。徕卡三离子束切割仪EM TIC 3X制备平整面时,有其独特优势,离子枪为鞍型场枪,热量分散,加工样品平整面积大,对样品热损伤小。

 

在实际使用三离子束EM TIC 3X技术获取样品无应力平整断面时,粉末样品的剖面是常常会遇到的,根据离子束设备对样品的要求,完全可实现粉末样品的加工,如金属及氧化物粉体材料,无机粉体材料,高分子粉体材料以及复合粉体材料等,只需将适量粉体材料包埋为块体即可。通常为片状。

 

在包埋粉体类样品时,通常有三种方法,树脂包埋法,导电碳胶包埋法,刮片法,在此处介绍前两种方式,此二种方式简单易操作,且切出面积大,不仅可以用于扫描电镜,原子力显微镜等形貌分析,也可做能谱定性定量分析,EBSD的晶粒取向等分析。

 

对于树脂包埋法,制备所需准备为:树脂,包埋板,加热台,砂纸。大致流程如下:取适量样品成团聚状态放入包埋板中,树脂混合均匀后注入包埋板,在有样品的位置做局部的搅拌(样品若分散开则单位面积颗粒少,即加工后单位面积中颗粒剖面少),加热台加热即可固化,之后将待加工面磨抛出来即可,若想效果最佳,效率最高,则与徕卡精研一体机EM TXP配合最为完美,样品固定后,锯片切到颗粒最多位置,换抛光片由粗到细磨抛即可。

Leica EM ACE600是完美的多用途高真空薄膜沉积系统,设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的,细粒度的和导电的金属和碳涂层,用于最高分辨率分析。

性能与优点

Leica EM ACE600 高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。

适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统,是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。

 

完美重现的结果
运行全自动化过程,辅以参数和协议设置。集成的石英测量和自动化3轴载物台移动


容易清洗
可拆卸的门、卷帘、内部屏蔽、来源和载物台,确保制备高品质样本的环境清洁。


小巧紧凑
设计紧凑,占地面积小,节省实验室空间。


操作简便
直观的触摸屏,松推配合的连接器和免工具的目标变更,舒适的前门锁定。


自定义配置
配备了仪器,可满足您的具体需求。


低温镀膜
真空低温传输系统适应将室温镀膜机转换成低温镀膜机。样本能在低温下于受保护的环境中进行镀膜和传输。

 

 

 

Leica EM ACE600 可以配置如下镀膜方式:


. 金属溅射镀膜
. 碳丝蒸发镀膜
. 碳棒蒸发镀膜(带有热阻蒸发镀膜选配件)
. 电子束蒸发镀膜
. 辉光放电
. 连接VCT样品交换仓,与徕卡EM VCT配套实现冷冻镀膜,冷冻断裂,双复型,冷冻干燥和真空冷冻传输

 

 

 

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碳丝蒸发的新纪元
厚达40nm的碳膜可以被精确设定并准确获得,通过脉冲碳丝蒸发,结合连续膜厚监控(石英片膜厚控制),和独特的软件控制来实现。碳膜因此实现高度可重复性和均匀性。
得益于可拆卸式玻璃门,挡板和样品室屏蔽内壁,镀膜源和样品台,样品室内部清洁工作非常简便。

倾斜式镀膜源配合旋转样品台,可获得区域更大,更均匀的镀膜。根据实验需求,可以同时加装2种镀膜靶源。

内置膜厚监控系统,石英片置于样品台正中,可获得更加准确的镀膜结果。

三轴马达驱动样品台-无需破真空就可调整样品台高度角度。


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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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