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北京亚科晨旭科技有限公司
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| 参考报价： | 面议 | 型号： | SEMILAB-全光谱椭偏仪GES5E |
| 品牌： | 泰思肯 | 产地： | 匈牙利 |
| 关注度： | 1445 | 信息完整度： |  |
| 样本： | 典型用户： | 暂无 | |
| 价格范围 | 10万-30万 |
| 光谱范围 | 1100到1700 |
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SEMILAB-全光谱椭偏仪GES5E
(Spectroscopic Ellipsometer)
产品特点
业界第yi家光谱型椭偏仪测试设备厂商 |
业界标准测试机构定标设备，参与发布中华人民共和国椭圆偏振测试技术标准 |
非接触、无损测试所测样品无损伤的测量 |
业界最宽测试光谱范围，选配135nm-25um，并可自动切换快速探测模式和高精度探测模式 |
测试功能延展性强，并支持后续升级服务 |
定期免费升级SOPRA材料数据库 |
开放光学模型拟合分析过程，方便用户优化测试菜单 |
主要应用
光伏行业：晶硅电池减反膜、薄膜电池透明导电膜、非晶硅微晶硅薄膜电池、CIGS薄膜电池、CdTe薄膜电池、有机电池、染剂敏感太阳能电池 |
半导体行业：High-K、Low-K、金属、光刻工艺、半导体镀膜工艺、外延工艺 |
平板显示行业：TFT、OLED、LTPS、IGZO、彩色滤光片 |
光电行业：光波导、减反膜、III-V族器件、MEMS、溶胶凝胶 |
主要技术指标
测试速度：＜1 sec （快速测试模式） |
测量光谱分辨率：＜0.5nm@633nm （高分辨率测试模式） |
最大样品尺寸： 300mm |
厚度测量范围：0.01nm-50um |
厚度测试精度：0.02nm @120nm SiO2 on Si |
折射率测试精度：0.002 @120nm SiO2 on Si |
SEMILAB-全光谱椭偏仪GES5E可用于High-K、Low-K、金属、光刻工艺、半导体镀膜工艺、外延工艺 信息由北京亚科晨旭科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于SEMILAB-全光谱椭偏仪GES5E可用于High-K、Low-K、金属、光刻工艺、半导体镀膜工艺、外延工艺 报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
