您好,欢迎您查看分析测试百科网,请问有什么帮助您的?

稍后再说 立即咨询
北京亚科晨旭科技有限公司
400-6699-117转1000
热门搜索:
分析测试百科网 > 松下三洋 > 半导体专用检测仪器设备 > Panasonic 松下等离子清洗设备在半导体晶圆工序的延伸以及引线键合

Panasonic 松下等离子清洗设备在半导体晶圆工序的延伸以及引线键合

参考报价: 面议 型号: PSX307等离子清洗设备
品牌: 松下三洋 产地: 日本
关注度: 872 信息完整度:
样本: 典型用户: 暂无
价格范围300万-500万
咨询留言 在线咨询

400-6699-1171000

AI问答
可以做哪些实验,检测什么? 可以用哪些耗材和试剂?

PSX307等离子体清洗机的平行板腔技术提供了比传统批量系统更好的蚀刻均匀性。在线装或倒装芯片连接和表面活化之前,体验一下表面清洁,并改善填充下的润湿性和模具封装。


PSX307A变体同时支持晶圆级工艺和传统的基材器件级工艺。在绝缘层前、再分布层后、球状附着或切割后对晶圆进行表面改性,以改善芯片附着工艺。



主要特点 平行板技术实现均匀性 基板或300mm晶圆,带或不带切割框架 专利的等离子体监测器(实时)。 单位水平的过程可追溯性 氩气、氧气或混合工艺气体选项




清洁方法 - 平行板射频背溅射法 放电的气体 * - Ar [选项:O2] [*1] 基片尺寸(毫米) * - L 50 x W 20 to L 250 x W 75 [*2] 包括S型选项 L 50 x W 20至L 330 x W 120包括M型选项 基材厚度(毫米) - 0.5至2.0 尺寸(毫米)/质量* - W 930 x D 1,100 x H 1,450 / 555 kg 宽1,764 x 深1,100 x 高1,450 / 850公斤,包括S型选项 宽1,764 x 深1,100 x 高1,450 / 770公斤,包括M型选件 [*3] 电源 * - 1相AC 200 V, 2.00 kVA [满载5.00 kVA] 。 [*4] 气源 - 0.49 MPa或更高,6.5 L/min [A.N.R 型号ID - PSX307A 模型编号 - NM-EFP3A 清洁方法 - 平行板射频反溅射法 放电气体 - Ar [选项:O2, O2 + He] 。



设备型号

PSX307

清洗模式

平行背散射法

放电气体

Ar(可选配O2)

基版尺寸

S型号:L 50mm * W 20mm To L 250mm * W 75mm


M型号:L 50mm * W 20mm To L 330mm * W 120mm

基版厚度

0.5~2mm

尺寸/重量

W 930mm * D 1100mm * H1450mm / 555KG

S型号:W 1764mm * D 1100mm * H1450mm / 850KG

M型号:W 1764mm * D 1100mm * H1450mm / 770KG

供电要求

单相电200V,2.00kVA(满负荷5.00kVA)

气压要求

0.49MPa or more,6.5L/min[A.N.R]


Panasonic 松下等离子清洗设备在半导体晶圆工序的延伸以及引线键合信息由北京亚科晨旭科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于Panasonic 松下等离子清洗设备在半导体晶圆工序的延伸以及引线键合报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。

注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

Panasonic 松下等离子清洗设备在半导体晶圆工序的延伸以及引线键合 - 产品推荐
移动版: 资讯 直播 仪器谱

Copyright ©2007-2024 ANTPEDIA, All Rights Reserved

京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号