Centrotherm 卧式热反应系统适合低产量、多工艺适应性加工要求的研发或小批量生产

Centrotherm  卧式热反应系统-E1200/初步小规模生产的卧式炉-E1550/大批量生产的卧式炉-E2000

最多可搭配4组石英管或碳化硅管反应炉；

清洁的自动载舟系统；

反应炉独立控制提供了优质的小批量或复杂工艺能力；

先进的水冷却系统设计杜绝反应炉的温度干扰不耗用洁净室空气；

设备参数：

反应炉使用晶片尺寸：150mm（最多50片）或200mm（最多25片）

加热系统：3组300mm恒温区，温差0.5℃；

温控范围：200℃～1300℃；

可处理工艺气体种类：H₂、Ar、N₂O、N₂、SiH₄、NH₃、B₂H₆、PH₃、SiH₂Cl₂；

系统总功率：55kW

电源供给：400V.80A；

压缩空气：600～1000kPa；

冷却水流量：50～70LPM

排气能力：400m³/H

centrotherm E1550 最优化系统，支持多种工艺能力，适用于中等生产能力和高工艺性能用户，是一款安全、可靠、易于维护的卧式扩散炉平台。该炉可高达4层石英管或SiC工艺管， 其硅片尺寸可达300毫米的。凭借其低维护和运行成本、及占地面积小等优势， E1550 可以生产出极具成本效益的产品。

特点：

适用于常压以及LPCVD和PECVD工艺
特殊工艺腔体3或4种版本可供选择
先进的冷却系统:不同炉管之间没有热干扰
全自动片架传送系统
模块化部件设计，便于在洁净室安装调试

centrotherm 2000专为大批量生产而设计，支持多种工艺能力，适用于大批量生产和高工艺性能的用户，并具有突出的高性能、占地面积小、低购置成本等优势。该产品对多种应用要求的高工艺具有的灵活性，并可高达4层石英管或硅片尺寸可达300毫米的SiC工艺管

特点：

适用于常压以及LPCVD和PECVD工艺
特殊工艺腔体3或4种版本可供选择
先进的冷却系统:不同炉管之间没有热干扰
全自动片架传送系统
模块化部件设计，便于在洁净室安装调试

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途