Centrotherm 高温退火/氧化系统-Activator/Oxidator 150具有性能高、占地小和生产成本低等特点

Centrotherm 高温氧化系统-Oxidator 150

一、产品简介

德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm Oxidator 150 经过专业的研发, 能够满足 SiC 圆片的高温氧化工艺; 同时亦可用于常规的硅圆片的氧化。Centrotherm Oxidator 150 卓越的反应腔具有性能高、占地小和生产成本低等特点，为客户提供最高的工艺灵活度, 同时能够保证有毒气体的安全使用。

设备特点：

炉管和加热器均处于真空密闭反应腔内，上下料腔室可用Ar或 N2 进行吹扫，可以保证有毒气体（如 NO、N2O、H2、NO2 等） 的安全使用。

  氧化工艺使用 N2O 气氛，可以改善 SiO2/SiC 接触表面以获得更高的通道迁移率，同时可提高SiC表面氧化物的稳定性和寿命。

  提供带有氢氧合成系统的湿氧工艺。

高达 1350 ℃ 的温度和其他支持功能为 SiC 氧化工艺和低界面陷阱密度, 高通道移动率的氧化层研制提供可能。

二、适用工艺

高温SiC或Si氧化

氧化后退火（氢气环境）

三、产品特性

性能

圆片尺寸： 2″、3″、4″、6″

工艺温度： 900 ℃ ~ 1350 ℃

真空度：  小于10^-3 mbar

占地面积小： 1.8m² 

真空密封反应腔

可以并排安装

选项

氢氧合成用于湿氧

机械手装片

测温热偶

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途