徕卡Leica EM ACE200真空镀膜仪

为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。 配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得完全可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。 各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机

技术参数：

1、适用于常规SEM/TEM/DEX喷涂要求

2、可选离子溅射模式、碳丝蒸发模式、或双模式、可选挥发放电功能

3、方向型离子溅射模式，可提高平面样品镀膜效果，独特的脉冲式碳丝蒸发模式，实现对碳膜厚度的控制

4、可选配石英膜厚监控器，可程序化控制膜厚，并反馈镀膜仪，精度为0.1nm

5、标配有镀膜金属挡板，可用于干预溅射，确保镀膜纯度

6、专利设计方形样品室，尺寸：140mm宽x145mm深x150mm高，样品台直径80mm

7、工作距离：30-100mm

8、溅射电流：≤150mA

9、极限真空度：≤7x10-3mbar

10、一体化触摸控制界面，操作简单

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途