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光刻机 / 紫外曝光机 (Mask Aligner)

参考报价: 30万-50万 RMB(人民币) 型号: M-100
品牌: Ecopia 产地: 韩国
关注度: 127 信息完整度:
样本: 典型用户: 暂无
供应商性质生产商产地类别进口
价格范围30万-50万
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仪器简介:
光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner)
原产国: 韩国,唯一能做到图形化蓝宝石衬底(PSS)光刻机,高性价比
型号:KCMA-100;
又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等;
ECOPIA为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。
感谢南开大学,中科院半导体所,中科院长春应化所,中科院物理所,浙江师范大学使用此设备做课题研究!!
此型号光刻机是所有进口设备中性能价格比最高的型号,达到欧美品牌的对准精度,CCD显示屏对准更为方便,液晶触摸屏操作,采用欧司朗紫外灯,寿命长。整机效果皮实耐用,正常使用3年内不会出问题!!
目前,上海蓝光已采用该公司全自动型光刻机做LED量化生产,证明其品质达到LED产业标准要求!!而且已经成功提供图形化蓝宝石衬底(PSS)光刻工艺设备.

技术参数:
- 基片尺寸:4、6、8、12、25英寸,其他尺寸可定制;
- 光束均匀性:<±3%;
- 曝光时间可调范围:0.1 to 999.9秒;
- 对准精度:0.6-1微米
- 分辨率:1微米;
- 光束输出强度:15-25mW/cm2;

 


项目技术规格
曝光系统(Exposure System)

MDA-400M型
光源功率350W UV Exposure Light source with Power supply
分辨率- Vacuum Contact : 1um ( Thin PR@Si Wafer )
- Hard Contact : 1um
- Soft contact : 2um
- 20um Proximity: 5um

最大光束尺寸4.25×4.25 inch
光束均匀性≤ ±3% (4inch standard)
光束强度15~20mW/cm2 (365nm Intensity)
曝光时间可调整0.1 to 999.9 sec
对准系统(Alignment System)对准精度1um
对准间隙手动调节(数字显示)
光刻模式真空, 硬接触, 软接触,渐进(Proximity)
卡盘水平调节楔形错误补偿Wedge Error Compensation
真空卡盘移动X, Y: 10 mm, Theta: ±5°
Z向移动范围10mm
接近调整步幅1um
样品(Sample)基底 Substrate2, 3, 4 inch
掩模板尺寸4 and 5 inch
Utilities真空 Vacuum< -200 mbar (系统包含真空泵)
压缩空气 CDA> 5Kg/cm2
氮气 N2>3Kg/cm2
电源 Electricity220V, 15A, 1Phase
显微镜及显示器
CCD and Monitor
Dual CCD zoom microscope and LCD (17inch) monitor; Magnification : 80x ~ 1000x;

 

主要特点:
- 光源强度可控;
- 紫外曝光,深紫外曝光(Option);
- 系统控制:手动、半自动和全自动控制;
- 曝光模式:真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式;
- 真空吸盘范围可调;
- 专利技术:可双面对准,可双面光刻,具有IR和CCD模式
- 两个CCD显微镜系统,最大放大1000倍,显示屏直接调节,比传统目镜对准更方便快捷,易于操作。
- 特殊的基底卡盘可定做;
- 具有楔形补偿功能;

 

 


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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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