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日立高新磁控溅射器MC1000

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参考报价: 面议 型号: MC1000
品牌: 日立 产地: 日本
关注度: 930 信息完整度:
样本: 典型用户: 暂无
价格范围5万-10万
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AI问答
可以做哪些实验,检测什么? 可以用哪些耗材和试剂?

日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径:60 mm
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度:20 mm
 
特点:
采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件
可处理较厚或较大的样品(选配件)
记忆功能可存储常用加工条件

规格:

项目 说明
放电 类型 磁控二极管放电型(电场垂直于磁场)
电极组成 反向平行盘(嵌入磁铁)
电压 最大0.4Kv DC(直流可变)
电流 最大40mA DC

喷镀速率(最大)[条件]

压力:7Pa

放电电流:40mA

标靶与样品表面之间的距离:20mm

Pt靶(选配件) 15nm/min
Pt-Pd靶(选配件) 20nm/min
Au靶(选配件) 35nm/min
Au-Pd靶(选配件) 25nm/min
样品尺寸 最大直径 Ф60mm
最大高度 20mm
机械泵 135/162 L/min(50/60Hz)
靶材﹡² Pt, Pt-Pd (8: 2), Au, Au-Pd(6: 4)
电源要求 单相,100VAC(±10%)15A(50/60Hz)3-针插头线缆(3m)
尺寸 宽度 450mm
长度 391mm
高度 390mm
重量 主机:约25Kg 机械泵:约28kg

﹡¹:喷镀速率仅供参考

﹡²:主机内不包括靶材。请从选项中选择(鉑,铂-钯,金,金-钯)




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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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