微波等离子体增强化学气相沉积系统(MPECVD)

仪器简介：
Woosin公司生产的MPECVD为一高效微波等离子体制备设备，可用于生长金刚石薄膜、碳纳米管、氮化硅、碳化硅等超硬膜，具有生长速度快、制备温度低、性价比高等优点，已有韩国、中国(含香港地区)等许多大学与研究机构使用。

      应用领域：
              1) Si3N4；
              2) SiO2；
              3) cubic BN or cBN；
              4) SiC；
              5) C3N4；
              6) nano-crystalline diamonds or nc-diamonds； 
              7) diamond-like-carbon or DCL；
              8) micro-crystalline silicon or m-silicon；
              9) hexagonal BN or hBN；
             10) carbon nanotubes or CNTs；
             11) carbon nano-fibers or CNFs；
             12) highly-oriented diamonds or HODs.

技术参数：
MWPECVD-RX:
1. DC Plasma CVD, RF Plasma CVD,Microwave Plsma CVD
2. Atmospheric Microwave Plasma Source
3. Large diameter(6")
4. Max. 6" Sample
5. Upto 900℃ heating
6. Double-wall, Stainless Steel Reaction Chamber
7. 2KW microwave power generator(standard)



主要特点：
1.Diamond/CNT Growing
2.400mm OD Stainless Steel Chamber
3.4 inch Substrate for Diamond
4.6 inch Substrate for remote operation
5.RF/DC Plasma option

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途