机械测试仪TriboLab CMP

TriboLab CMP 利用其前身产品 （Bruker CP-4） 超过 20 年的 CMP 领域专业知识，为业界领先的 TriboLab 平台带来了一套完整的功能。基于本套设备产生的高精度和高可重复性使得在整个 CMP 流程中能够进行高效的鉴别、检查和连续功能测试。TriboLab CMP 是市场上唯一能够提供广泛的抛光压力 （0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）、摩擦、声发射和表面温度测量的工艺开发工具，可准确、完整地描述 CMP 工艺和耗材。

用于 CMP 的小型研发规模专业系统

布鲁克的TriboLab CMP工艺和材料表征系统是专为晶圆抛光工艺而设计，是具有可靠、灵活和高效的台式设备。

• 重现全尺寸晶圆抛光工艺条件，无需在生产设备上停机

• 提供无与伦比的测量可重复性和细节检测

• 允许在小样品上进行测试，比全晶圆测试节省大量成本

板载诊断系统可以更好地了解抛光过程

• 比市场上任何其他系统提供更多的瞬态抛光过程的参数

• 从接触抛光盘开始直至整个测试过程都能收集数据

• 通过更完整、更详细的数据实现早期流程开发决策

具有灵活的样品类型、尺寸和安装配置

• 抛光任何平面材料，几乎能使用任何修正盘，任何抛光液，和任何抛光垫

• 轻松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圆

• 可同时安装多个样品，测试更灵活

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途