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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 应用于 AlTiN 涂层研究
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参考报价: 面议 型号: RFICP140
品牌: 考夫曼kri离子源 产地: 美国
关注度: 暂无 信息完整度:
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供应商性质区域代理产地类别进口
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发布时间:2023年04月

四川某大学实验室研究靶电流, 偏压、沉积时间等各试验工艺参数对两组试样 AlTiN 涂层力学性能的影响旨在找出能够镀制优良性能涂层的最佳工艺方案的项目中采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 作为溅射源.

 

伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:

型号

RFICP140

Discharge

RFICP 射频

离子束流

>600 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

14 cm Φ

离子束

聚焦平行散射

流量

5-30 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

24.6 cm

直径

24.6 cm

中和器

LFN 2000

 

AlTiN 涂层具有高抗氧化性良好热硬性摩擦系数低与基体之间结合力强耐磨性强等优点因此AlTiN涂层在机械加工行业,尤其是在刀具领域,一直是研究的热点.

 

KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.

 

KRI 离子源是领域公认的领导者已获得许多专利. KRI 离子源已应用于许多已成为行业标准的过程中.

 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵检漏仪质谱仪真空计美国 KRI 考夫曼离子源美国HVA 真空阀门美国 inTEST 高低温冲击测试机美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

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