上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 40 应用于双腔室高真空等离子 ALD 系统, 实现小规模试验中 2-4 英寸硅片等半导体衬底表......
KRI 离子源应用于超高真空磁控溅镀设备 UHV Sputter上海伯东代理美国 KRI 离子源应用于超高真空磁控溅镀设备 UHV Sputter 实现高质量薄......
KRI 离子源应用于磁控共溅镀设备 Co-sputter上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源应用于磁控共溅镀设备 Co-sputter ......
KRI 离子源应用于电子束蒸镀设备 E-beam Evaporation System特殊的系统设计电子束沉积是一种实用且高度可靠的系统, 上海伯东某......
上海伯东代理美国 KRI 射频离子源应用于多层膜磁控溅镀设备 Multilayer sputter, 通过使用 KRI 射频离子源可实现基板......
KRI 离子源应用于金属热蒸镀设备 Metal Thermal Evaporation System热蒸发是物理气相沉积 PVD 中最常用方法. 使用......
KRi 射频离子源应用于车载摄像头镜片镀膜工艺, 实现车载镜头减反, 塑胶镜片增透车载镜头的镀膜非常重要, 镀膜的核心用途就是增加透光率. 先进的镀膜......
KRi 大尺寸射频离子源树脂镜片高性能 AR 工艺树脂为手机行业目前最常用的镜片基材, 为了减少镜片反射, 提升透过率, 会在镜片表面镀 AR 增透膜 (减反膜......
KRi 离子源应用于蓝玻璃 AR 工艺配备 800万或以上像素的高端手机都基本内嵌蓝玻璃滤光片的摄像头. 蓝玻璃滤光片通过 AR ......
KRi 射频离子源应用于红外截止滤光片 IRCF 工艺上海伯东某客户为精密光学镀膜产品生产商, 生产过程中需在白玻璃上进行镀膜. ......
武汉某大学研究中心为了改善 TC4 表面性能, 采用KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP380溅射镀制&nbs......
云南某大学实验室采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140离子束溅射制备尺寸均匀、高密度的 MnGe ......
光通信的信息载体是光波, 为了进一步提高光通信系统中光信号的传输质量, 满足光通信系统的使用要求, 广东中山某研究机构采用&nbs......
VO2 薄膜作为一种热门的功能材料, 具有优秀的相变特性和电阻开关特性, 在微测辐射热计、光存储器等光学器件领域具有广泛的应用前景......
四川某大学实验室研究靶电流, 偏压、沉积时间等各试验工艺参数对两组试样 AlTiN 涂层力学性能的影响, 旨在找出能够镀......
为了使堵片传感器的灵敏度, 分辨率、测量范围小、测量精度等得到提高, 可实现对堵片打开信号的可靠、稳定测量, 满足航天飞行器发动机......
上海某大学研究室在离子溅射制备类金刚石 Ta-C 涂层研究中采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP22......
为了得到最佳性能的磁控溅射 Cu-W 薄膜, 某大学新材料研究所采用 KRI 考夫曼射频离子源 RF......
河北某大学研究室为了研究磁控溅射时间和氮气流量对 ZrN 薄膜色度的影响, 采用 KRI 考夫曼射频离子源&n......
某微电子制造商采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 溅射沉积硅片金属薄膜. 伯东 K......
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