产品简介

• 全新立式全谱光谱采用国际标准的设计和制造工艺技术，采用全数字技术，替代庞大的光电倍增管（ＰＭＴ）模拟技术，与国际光谱仪技术同步，采用真空光学室设计及全数字激发光源、领先的ＣＣＤ检测器，高速数据读出系统，使仪器具有极高的性能、极低的检出线、长期的稳定性和重复性。适用于金属制造业、加工业及金属冶炼业用于质量监控、材料牌号识别、材料研究和开发的主要设备之一。

产品特点

• 优化设计的真空光学系统：整体光学室装置、帕邢-龙格结构设计，所有谱线集成在罗栏园上；直射式光学技术及透镜ＭｇＦ２材料，保证Ｃ、Ｓ、Ｐ、Ｎ紫外波长的最佳能量。

• 全数字激发光源：全数字、高能预燃技术（HEPS），不同样品设置不同的激发参数，提高样品的测量精度和相似性，提高样品激发速度，提高火花稳定性，使样品有更好的重现性。

• 功能性设计的激发装置：集成气路、喷射电极技术，开放式铜火花台，不仅保证样品测量精度还能购测量各种复杂形状的样品（含线材），单板式透镜装置设计，一般人员都能方便对激发台进行进行维护和透镜的清洗。

• 高集成、高速度读出系统：高性能CCD固态检测技术，波段内谱线全谱接收； FPGA及高速数据通讯技术，数据读入功能强大，检测数据整体读入时间短。

• 直观、易操作的分析软件：基于WINDOWS系统的多国语言的ＣＣＤ全谱分析软件全方位的管理和控制整个测量过程，为用户提供强大的数据处理能力和测试报告输出能力；仪器在软件中配备多条工厂校正曲线及更多材质分析及先进的解决方案；仪器实现全谱分析，智能扣干扰，扣暗电流、背景和噪声的算法，极大的提高了仪器的分析能力。

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技术参数

• 光学系统：帕型）-龙格罗兰圆全谱真空型光学系统；

• 波长范围：170nm~580nm

• 焦距：400mm

• 探测器：高性能CCD阵列

• 光源类型：数字光源，高能预燃技术（HEPS）

• 放电频率：100-1000Hz

• 放电电流：最大400A

• 工作电源：220VAC 50/60Hz

• 仪器尺寸：720*860*500

• 仪器重量：约100kg（不含真空系统）

• 检测时间：依据样品类型而定，一般25S左右

• 电极：钨材喷射电               

• 氩气要求：99.999％

• 氩气进口压力：0.5MPa

• 氩气流量：激发流量约3.5L/min

• 工作温度：10℃～35℃

• 工作湿度：20％～85％

• 分析间隙：真空软件自动控制、监测

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途